日本光刻胶禁令1月31日生效,武汉太紫微电光实验室当天宣布T150光刻胶量产验证通过。一个东方大国在半导体领域又迈出了一大步。 太紫微电光实验室成立于2024年5月,在不到5个月的时间里,凭借自己的力量攻克光刻胶这一“卡脖子”技术难题,研发出全自主设计的T150 A光刻胶,极限分辨率120nm,性能稳定,量产验证通过。 这当然是个好消息,但全球半导体产业竞争不会因为你的进步而停止脚步。你欣赏百花齐放,我也会随时准备拔剑封喉。
打得漂亮!美国终于亮出底牌!据环球网引述路透社的报道,白宫发言人于3月5日公
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