外媒报道，中国自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，正在华为东莞工厂进行测试。LDP将少量锡蒸发成两个电极之间的云状物，然后使用高压将锡蒸气转化为等离子体。电子与锡离子碰撞产生13.5nmEUV光。 ASML在EUV的光源分两个部分： 1是通快供应的初级二氧化碳激光器，提供10600nm波长的高功率激光，照射锡金属液滴，以产生13.5nm波长的EUV光线。 2是美国Cymer提供并控制锡金属液滴，将13.5nm波长的EUV光线收集，并通过反射镜修正光的前进方向的工作。 ASML从1999年正式开始搞EUV光刻，2016年之后才商业化。
