在当今科技高速发展的时代，光刻机已成为半导体制造领域的核心设备，而 EUV 光刻机更是其中的尖端存在。长期以来，光刻机技术一直被少数几个国家和企业所掌控，而中国作为科技领域的后起之秀，在光刻机技术的研发上不断投入，力求突破。然而，最近俄罗斯的主流社交平台上出现的一篇文章，却引发了一场关于俄罗斯和中国谁将更快造出 EUV 光刻机的激烈讨论。

说到光刻机，阿斯麦无疑是行业的巨头，其周围聚集了众多为其提供关键技术的国家。中国在光刻机技术的道路上奋力前行，不断积累经验和技术。但当提及俄罗斯的光刻机技术时，很多人都会感到疑惑，甚至质疑俄罗斯在芯片制造方面的能力。

然而，俄罗斯主流社交平台 Dzen 上的那篇文章却声称，在 EUV 光刻机的研发上，俄罗斯相比中国具有明显优势。该文章对中国的 EUV 技术前景表示不看好，给出了几点理由。其一，认为 EUV 设备技术极为复杂，所使用的高科技组件繁多，堪称有史以来最复杂的设备，从而断言中国制造此设备的前景“非常模糊”。其二，指出 ASML 近几十年来一直致力于 EUV 技术的开发，汇聚了全世界最先进的成果，而中国在这个领域起步较晚，发展不足。

但这种观点显然是片面和短视的。中国在科技领域的发展从来都不是一帆风顺的，但凭借着坚定的决心、巨大的投入和无数科研人员的努力，已经在众多高科技领域实现了从跟跑到并跑甚至领跑的跨越。在光刻机技术方面，中国虽然面临诸多困难和挑战，但也取得了显著的进展。

中国拥有庞大的市场需求和完整的工业体系，这为光刻机技术的研发提供了坚实的基础和强大的动力。政府高度重视半导体产业的发展，出台了一系列支持政策，吸引了大量的资金和人才投入到光刻机及相关技术的研发中。同时，中国的科研人员在面对国外技术封锁的情况下，不断自主创新，攻克了一个又一个技术难题。

相比之下，俄罗斯在光刻机技术领域的基础相对薄弱。尽管俄罗斯在某些基础科学和工程技术方面具有一定的实力，但在半导体产业的整体布局和发展上，与中国存在一定的差距。

当然，我们不能忽视俄罗斯在科技领域的潜力。但就目前的情况来看，断言俄罗斯在 EUV 光刻机的研发上比中国更具优势还为时尚早。光刻机技术的突破需要长期的积累、持续的投入和全方位的协同创新，这是一个系统工程，不是一蹴而就的。

无论是中国还是俄罗斯，在追求 EUV 光刻机技术的道路上都还有很长的路要走。而在全球科技竞争日益激烈的今天，合作共赢或许才是实现技术突破和产业发展的最佳选择。相信通过各国的共同努力，光刻机技术必将取得更大的进步，为人类科技的发展做出更大的贡献。