“中国永远造不出光刻机！”2016年中科大副院长朱士尧教授说道，他的理由是“因为美国也造不出来”，而之后21年中国工程院院士吴汉明也说不现实，那我们真的没做出来吗？ 在过去几十年的发展中，半导体技术不断进步，尤其是在光刻机领域，这项技术被认为是芯片制造中的关键技术。 光刻机被广泛用于芯片制造过程中的关键步骤——将电路图案转移到硅片上。 由于其高度复杂的技术要求，长期以来，全球的光刻机市场几乎由荷兰的ASML公司垄断。 2016年，时任中科大副院长朱士尧教授曾言：“中国永远造不出光刻机。” 他的理由是，光刻机的技术极其复杂，甚至连美国都未能完全掌握这一技术。 21年后，中国工程院院士吴汉明也表示，光刻机的国产化并不现实。 可随着中国在芯片行业的迅猛发展，这些论调已经逐渐被挑战和反驳，反而展现出中国不仅能够造出光刻机，还能够在芯片行业中取得突破。 尽管光刻机的核心技术曾被认为是全球最难攻克的领域之一，但中国的芯片行业并未因此放弃这一挑战。 中国工程师们在逐步积累技术经验和资本的过程中，克服了一个又一个难关。早在2010年左右，国内的科研机构和企业就开始关注光刻机的研发。 北京的中科院微电子研究所、上海微技术工业研究院等单位，先后启动了针对光刻机核心技术的攻关项目。 2016年，中科院微电子所宣布自主研发的光刻机已取得突破性进展。 尽管与ASML的最新产品相比，国内的光刻机在技术上还有较大差距，但这一突破无疑为中国的半导体产业注入了强劲动力。 更重要的是，这一突破标志着中国的科研团队拥有了挑战世界光刻机技术垄断的基础。 随着对光刻机技术不断的深入研究，中国的企业也在逐步崭露头角。 光刻机的核心技术如光源、光学系统、精密机械等，早期依赖进口，但通过多年的技术积累和创新，中国企业逐步实现了关键零部件的自主研发。 如今，中国不仅具备了光刻机的生产能力，还能够在一些特定领域，特别是在14纳米及以上工艺制程中实现一定程度的自主生产。 国内的企业不仅在光刻机技术上取得突破，还逐步打破了外国企业在核心技术上的垄断。 在过去，许多关键技术和设备依赖于进口，导致中国芯片产业在一些领域受制于人。 而随着技术创新和研发投入的增加，越来越多的国产企业成功研发出具有自主知识产权的光刻机，并取得了不小的市场份额。 一方面，国产光刻机的研发突破了核心技术的制约，另一方面，国内企业还在不断完善生产工艺和设备，通过自主研发提升了技术自主可控的能力。 尽管目前中国的光刻机技术仍然与ASML的极紫外（EUV）光刻机存在差距，但在深紫外（DUV）光刻机的领域，中国的国产设备已经能够满足一定的市场需求。 除了技术研发的突破，中国还在不断挑战外国企业在核心技术上的垄断。 过去，由于西方国家对中国的技术封锁和市场壁垒，中国的半导体产业面临着诸多困境。 尤其是在光刻机、芯片设计软件等关键领域，外国企业的技术垄断一度成为中国芯片产业发展的瓶颈。 近年来，随着中国政府大力支持科技创新和产业自主化的政策实施，越来越多的企业开始挑战这一垄断。 无论是光刻机的国产化，还是芯片设计与制造的自主化，国内企业都在技术攻关、市场开拓等方面取得了显著进展。 同时，国家对科技创新的大力支持也为中国的半导体产业提供了有力保障。 通过加大研发投入、支持企业创新，中国在核心技术上逐步实现了突破。 越来越多的中国企业不再局限于跟随国际先进技术的发展，而是开始自主创新、引领行业潮流。 尽管面临技术封锁和外部压力，但中国在芯片行业的自主创新能力不断提升，光刻机等关键技术的国产化已不再是遥不可及的梦想。 信息来源：科技日报-国产新款7纳米芯片用于手机，提升AI表现；抖音-朱士尧聊企业文化-中国科学技术大学物理学教授朱士尧解读，光刻机和刻蚀机的区别
