美国后悔已经来不及了。华为开始反击，余承东虽然没有明说！但是当成立4年的新凯来首

美国后悔已经来不及了。华为开始反击，余承东虽然没有明说！但是当成立4年的新凯来首次主动曝光自己的时候，不仅是美国，就连法国，德国，英国在内的韩国，日本这些欧美以及西方国家都坐不住了。ASML和台积电彻底失控破防，当初协助美国制裁华为的企业一个都逃不掉事实是看过新闻的都知道，全球规模最大、规格最高、最具影响力的半导体行业盛会SEMICON China 2025在上海新国际博览中心举办，而其中就包含了新凯来。其次博主“厂长是关同学”作为了解华为比较深刻的博主，其实也说过了。新凯来的确是深圳国资委全资控股，但是其中的员工则是来自于华为2012实验室的。早在2018年的时候，华为就启动了“星光工程”，就是解决设备和制造方面的卡脖子问题。而新凯来是成立在2021年，同时员工和华为有直接关系，据悉是原来星光工程的3000员工平移过去的。只是没有对外宣称，不过也能理解。说白了本身“华为被美国制裁以后，身份就非常敏感”，所以选择深圳为背景，起码不会再遇到其他问题。再者为何新凯来这两天成为“现象级”的讨论对象，通俗点来讲吧！目前华为mate70手机中用的麒麟9020是7纳米工艺，是7纳米工艺。因为美国当初制裁华为的时候，不仅是给台积电打了招呼，限制生产。同时也给远在荷兰生产光刻机的ASML打了招呼，那就是不给国内进口5纳米工艺的EUV光刻机。而这次新凯来的到来则是打破了这个局限性，我们有自己的。因为他一口气公布了6大类31款设备，覆盖芯片制造全流程，包括刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节等。另外其实大家都心知肚明，新凯来的命名基本上就知道是全部延续了山的名字，和华为的麒麟，盘古，鲲鹏，鸿蒙古代神话简直就是如出一辙。比如外延沉积EPI设备（峨眉山系列）、原子层沉积ALD设备（阿里山系列）、物理气相沉积PVD设备（普陀山系列）、刻蚀ETCH设备（武夷山系列）、薄膜沉积CVD设备等。看到这里估计大家都明白了，我们缺少的就是光刻机。而这回新凯来的的产品，如EPI外延层技术是先进制程和第三代半导体的关键工艺，直接影响芯片性能与可靠性；ALD针对原子级薄膜沉积，是5纳米以下先进制程的核心装备；CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一，设备需满足从28纳米到5纳米不同制程的薄膜沉积需求等。华为的未雨绸缪，直接让国产芯片制造达到了一个新等级！任老的高瞻远瞩的结果也让欧美以及西方来了措手不及。之所以这次华为一句话都没有讲，甚至没有参与。其实就是不想让大家甚至国外联想太多，从而导致不必要的麻烦。因为现在的华为也好，新凯来也罢。依然还是无法和台积电和ASML抗衡，只是给他们了一个警告。相信随着新凯来等科技企业的发展，在3-5年之后。光刻机做出来，芯片量产的时候，那时候才是我们欢呼的时候。而今天现在的这个警告则是夯实了我们的底气，同时也警告欧美我们招惹中国的时候招呼着点，三十年河东三十年河西，以后一个个都要还回来的