国产EUV光刻机要试产了，美国封锁或将成泡影
2025年3月科技媒体报道，中国国产EUV光刻机预计三季度试生产，用创新技术。这可不是空穴来风。
在芯片制造领域，EUV光刻机对7纳米以下制程至关重要。其中EUV光源技术最难攻克。哈工大团队已攻克13.5nm极紫外光源技术，弯道超车。
全球EUV市场被荷兰ASML垄断，它的LPP技术弊病多，转换效率低、系统复杂、维护成本高。而我国科研团队另辟蹊径，LDP技术转换效率更高、稳定性更好，有望打破垄断。
这对中国半导体意义非凡。中芯国际受EUV设备进口限制，若国产设备落地，可突破瓶颈。华为也将受益，有望重新获得芯片供应，业务反弹。
我国打破技术垄断，开辟新赛道，优势明显。虽然从试产到商业化挑战重重，外部竞争压力也大，但中国半导体韧性强。研发投入增加，政策支持加大。
国产EUV光刻机突破，是技术胜利，更是突破美国封锁的见证。美国阴谋终会破产。
风中强子
胡说八道LDP技术只能生产7纳米以上成熟芯片，就是DUV！LPP技术才能做3纳米以下高端芯片！
用户13xxx07
光刻机研制进展在中国是极密。
用户10xxx77
哈工大了不起，不愧是国之栋梁
盼康轩艺
什么是或将，应该是必将成泡影。哪里的汉奸还想搞破坏