三星本月初引入首台High-NAEUV光刻机 你知道吗？三星在半导体领

小胖胖说科技 2025-03-19 20:21:14

三星本月初引入首台High - NA EUV光刻机

你知道吗？三星在半导体领域又有大动作了！本月初，三星引入了首台High - NA EUV光刻机。

早在2023年末，三星就和ASML签了1万亿韩元协议，在韩投资建半导体芯片研究设施，还拿到High - NA EUV光刻设备技术优先权。虽然后来三星换部门负责人审查项目投资时，传出可能减少采购量，但现在它真的引入了。

这台光刻机型号为“TWINSCAN EXE:5000”，据说要5000亿韩元。三星也成了英特尔、台积电之后，第三家安装的。

它主要用于技术研发，预计2025年中启用。三星要用它开发下一代半导体工艺，还和不少公司合作打造生态系统。

这光刻机可不简单，数值孔径0.55，比之前0.33的精度高，能做更小晶体管，还能每小时产超200片晶圆，用于制造3nm以下芯片呢！

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