-光刻胶国产化难题在哪里？？   光刻胶是一种刻薄膜材料，也是一种混合液体，需要

-光刻胶国产化难题在哪里？？   光刻胶是一种刻薄膜材料，也是一种混合液体，需要通过各种光的照射，它的溶解度才会发生变化。   在光学反应下，光刻胶经过曝光和显影等光刻操作，将我们所要的图形从掩膜版上面转移到基片上。   光刻胶广泛应用于电子信息产业的多个领域，比如半导体芯片、液晶显示器和电路板印制等等。   光刻胶在我国相关的事业发展中起着举足轻重的地位，但是我国的光刻胶一直无法国产化。   那么国产化难题究竟出现在什么地方呢？   经过相关资料分析，主要有供应链依赖、市场需求不足、技术瓶颈和国际封锁等原因。   供应链依赖方面主要是光刻胶的设备和关键材料完全依赖于进口，这些东西我国短期内无法进行自主研发。   市场需求方面主要是和芯片制造的规模相关，28nm以上的芯片市场需求量非常小，这也导致光刻胶的产量也并不明显。   技术瓶颈方面就是在制作光刻胶的时候需要特定的光学器件和光源。 这些特定的条件，目前我国还无法实现，需要我国的一些尖端技术人才投入大量的时间进行研发。   国际技术封锁方面主要是现如今的中国在半导体领域一直遭受着美国和日本两国的联手制裁，这使我国光刻胶水平和国际水平差了一大截。   这些也就是我国的光刻胶一直无法国产化的原因？不知道你们认为还有什么其他的原因呢？ （信息来源：国产光刻胶的关键战场，在这里——观察者网）