光刻机不愧是半导体行业的“皇冠明珠”，一台设备就决定了芯片制程的极限！报告里提到

光刻机不愧是半导体行业的“皇冠明珠”，一台设备就决定了芯片制程的极限！报告里提到ASML一家占了全球66%的市场份额，EUV光刻机更是100%垄断，但咱们国内企业也没闲着，上海微电子的90nm光刻机已量产，茂莱光学的光学元件甚至用在了国产光刻机里，这波自主可控真的稳了。 技术进步太硬核了！光刻机分辨率从1000nm卷到10nm以内，靠的是缩短光源波长、增大数值孔径，比如浸没式光刻让水的折射率“作弊”提升NA值，EUV直接上13.5nm极紫外光，ASML的高NA系统都飙到0.55了。不过国内福晶科技的光学晶体、炬光科技的激光器也在加速突破，产业链上每一环都在发力。 美日荷的封锁反而成了催化剂，2018年到现在禁售范围从EUV扩到部分DUV，但国内光刻机投资没停过——02专项扶持下，双工件台、光源、物镜等技术逐个击破，2024年半导体设备支出预计超1408亿美元，国产替代空间肉眼可见。茂莱、永新光学这些上游厂商的财报也显示，光刻机相关业务正在起飞。