震惊！ 台积电分析师：大陆造出DUV光刻机没问题，造EUV光刻机要等很久 在科技日新月异的今天，光刻机作为半导体制造的核心设备，其国产化进程一直备受瞩目。近日，自媒体博主项立刚的一则言论犹如一颗石子投入平静的湖面，激起层层涟漪——他断言，国内三年内即可解决光刻机“卡脖子”问题，实现国产化。然而，这一乐观预测随即遭遇了来自台积电分析师的“冷水”。那么，真相到底如何？让我们一探究竟！ 台积电分析师在节目中表示，大陆在DUV光刻机（深紫外光光刻机）领域已取得显著进展，28nm光刻机已不再是遥不可及的梦想。他预测，只要三五年时间，大陆就能实现DUV光刻机的国产化。这一判断无疑为国产光刻机的发展注入了强心剂。 然而，当话题转向EUV光刻机（极紫外光刻机）时，分析师的语气变得谨慎起来。他指出，EUV光刻机的研制难度极大，需要攻克众多技术难关。尽管大陆正在另辟蹊径，探索稳态微聚束等新技术路径，但成本高昂、技术复杂等问题依然严峻。因此，他预测EUV光刻机的国产化可能需要十年时间。 那么，面对如此艰巨的挑战，中国科学家和工程师们又是如何应对的呢？据悉，清华大学已与德国一所大学达成合作，共同研究稳态微聚束技术。这一技术有望为EUV光刻机的研制提供新的思路和方法。尽管目前仍面临诸多困难和挑战，但中国科学家们从未放弃过探索和创新。 回顾整个事件，我们不难发现，光刻机的国产化之路并非坦途。但正是这些困难和挑战，激发了中国科技工作者的斗志和创造力。他们正以坚定的步伐，一步步向着科技自立自强的目标迈进。 总结来说，无论是DUV光刻机的三五年国产化预测，还是EUV光刻机十年的漫长等待，都见证了中国科技力量的崛起和奋斗。这一路上，既有成功的喜悦，也有挫折的磨砺。但正是这些经历，让我们更加坚信：只要心中有梦，脚下就有路。让我们共同期待中国光刻机的辉煌未来，并在评论区留下你的看法和期待吧！