终于官宣可以制造28纳米芯片了!紫外光、深紫外光、极紫外光,也就是UV、DUV、EUV,我们公布的2台为DUV光刻机。。 氟化氩光刻机也就是DUV光刻机,是小于8纳米,1:3的工艺比例,推算出我们可以批量生产制造28纳米的芯片。也就是相当于ASML公司2008年的水平。 如果4重曝光,28纳米也就是7纳米,就是成本太高,良率低。 按2年进步一代,2026年,我们可以到14纳米,2028年,我们到7纳米。所以我们再耐心等待到2028年。只需要2重曝光,我们就可以轻松制造出3纳米芯片。 这次不是网友猜测,而是村里自己直接公布,所以,不是什么捕风捉影,而是光明正大的推广使用。
中国企业加油!科技人员加油!!
这台最高能做65纳米的光刻机就是上微电子的DUV干式光刻机,也就是90nm光刻机,这台不是浸润式光刻机,浸润式光刻机是DUVI光刻机,也就是大家口中的28nm光刻机,经多重暴光,最高精度可达到7nm。
2年一代这是美国速度,我们的速度就像福建舰海试那么快,最多1年一代的迭代速度。
500种人类重要工业品我们都第一,不会缺光刻机。
65能做,完全不制于人,就是把命保住了。先保命,后面的再努力。
浸润式的仍未见峨
兄弟你不懂不要乱讲,多去看看懂技术的。这款光刻机目前多次曝光早就能生产7纳米了,还2028呢!华为目前的7纳米芯片用的就是这款光刻机。而且国内早就攻破了3纳米的技术,只是目前一直没有euv光刻机而已。你要知道机器能生产3纳米和你有3纳米的生产技术是两码事,不然全世界买EUV的不止台积电一家,但是能生产的就他一家。
加快速度,尽快超过外国的光刻机技术
时间还长,别怕
家中有粮心里不慌!中国🇨🇳加油⛽
这个好像是官宣了
今年已经官宣14纳米国产光刻机上市了,国产28纳米光刻机2020年就出来了。
这次不是网友猜测,是你自己猜测?
加油
中国加油,不能看殴美臉色
2027年是EUV节点。
又开始吹牛逼啦
祖国万岁!
第一这说明我们有做光刻机的优秀人才,我们造的出来。第二,我们和人家比差了3次创新,人家的创新我们知道了,我们会少走很多弯路。第三,人家已经无路走,已经在山顶了,我们必然到它的高度。
核心部件光栅由长光研发生产
我说的不是工信部公布的现壮,而是文章的作者说,按2年进步一代,2028年就可达到3纳米的水平
这种工业.明珠集大成者,中国科技要腾飞了,就目前来看西方的各种所谓制裁除了是笑话以外,以后只有仰望了
3年前的机器现在才公开
只要肯投入,有时间,没什么搞不定的
赶紧做点实打实的产品出来,这种炒作没意义。
饭一口一口,只要灶有了锅有,炒菜慢慢就会会了,慢慢就炒的好吃了,慢慢的就炒的色香味俱全了
你做出来没问题,问题是你卖不出去咋弄。
用不了多久,西方国家就会有某些人跳出来,揭露他们的纳米骗局!
如果是真的,就值得表扬,怕就是牛逼哄哄[汗][汗]
只是公布了一个标准,有公布其他了吗?
这台就是对标1980i的,你查查1980i能生产几纳米早说。
这么多年还停在这里,其实不要研发,只要拿现成的14nm搞搞复制、逆向,简单得多