英特尔准备在日本成立芯片研发中心，将装备EUV极紫外线光刻机。日本媒体今天报道说，英特尔将与日本经济产业省下属的AIST国家先进工业科学技术研究所建设一家先进半导体制造技术研发中心，计划3到5年内建成。 这将成为日本第一家引入EUV光刻机的研究机构，未来，设备制造商与材料商只需缴纳费用就能使用该光刻机。此前，日本厂商只能使用海外研究机构的EUC光刻机去研发产品，比如比利时微电子中心的光刻机。 技术力量认为：EUV极紫外线光刻机将在5纳米以下的先进芯片研发扮演至关重要的角色。尽管日本的佳能已经开发出纳米压印技术来制造芯片，但在实际应用中，这种技术并没有像光刻技术那样广泛流行。光刻技术，特别是深紫外光刻和极紫外光刻，能够实现非常高的分辨率和精度，适用于制造高性能的集成电路和其他微纳米结构。纳米压印技术虽然也能实现较高的分辨率，但在某些情况下，其精度和一致性可能不如光刻技术，特别是在制造复杂的多层结构时。另外，纳米压印的模具制备过程复杂且成本高昂。此外，模具在多次使用后可能会出现磨损，影响图案的一致性和精度。 #英特尔##科技##EUV光刻机##芯片#