日本首次拥有 euv 光刻设备。

1.2024 年底，日本半导体制造企业 Rapidus 将迎来历史性时刻，他们购入的首台 ASMLEUV 光刻机将在新千岁机场隆重登场。

2.这是日本首次拥有 EUV 光刻设备意味着什么？这台 EUV 光刻机对于日本半导体产业发展具有里程碑式的意义。

3.Rapidus 此次购入的为 0.33NA 型号，虽然并非最新的 0.55NA 型号，但它仍代表了当前最先进的技术。为确保这台高精度设备的安全运输，新千岁机场甚至对相关路面进行了重新铺设，以减少振动对设备的影响。同时，ASML 也在千岁市设立了客户服务中心，为 Rapidus 提供设备接收和后续服务的全方位支持。

4.这一举措不仅体现了 ASML 对日本市场的高度重视，也为 Rapidus 的先进制程技术发展提供了强有力的保障。按照 Rapidus 的规划，他们计划在 2025 年 4 月启动先进制程原型线，该产线将配备包括这台 EUV 光刻机在内的二百多台设备，为日本半导体产业的发展注入新的活力。

5.Rapidus 的这一步不仅标志着日本半导体产业的技术突破，也预示着全球半导体产业格局的新变化。