——【·前言·】——

这一次美国、荷兰等西方国家可以说是傻了眼，当初老美为了限制中国的芯片发展，先是禁止芯片企业同中国展开合作，后又禁止ASML线给中国提供用于制造芯片的光刻机。

本以为这样就能有效阻碍中国的芯片发展，可没想到就在9月9日的时候，中国工信部也是公布了我国的一些重大技术装备，而在这份目录当中，网友发现氟化氪光刻机以及氟化氩光刻机赫然在列。

而二者的出现也就意味着我国在国产光科技领域实现了从0到1 的突破。

而与我国在光刻机上实现突破所不同的是，美国以及荷兰企业全都选择了沉默，他们当初对限制中国芯片发展可谓是信心满满，可现实却狠狠打了他们一耳光。

那么这次中国官宣国产光刻机在国际上产生了怎样的影响？与荷兰ASML所生产的光刻机之间有着怎样的差距？

——【·国产光刻机问世·】——

众所周知，芯片在现代科技中占有举足轻重的地位，故全球各国均高度重视其发展。中国亦然。

要知道，我国每年都需要使用大量的芯片，可此前的时候，由于我国对芯片发展并不是十分重视，导致我国每年都需要从国外进口大量的芯片，以至于芯片就成为美西方国家用来制裁我国的手段。

在一开始，他们先是禁止芯片企业向我国提供芯片，而此举也确实对我国的发展造成了一定的影响，见此，我国也是明白，要想摆脱西方国家的芯片制裁，就需要研制出属于自己的芯片，于是我国也是加大了在芯片领域的研究力度，在科研人员的努力下，我国的芯片发展有了极大的进步。

面对我国技术突破，西方国家采取了限制措施以阻止我国芯片领域的成就。其中最主要的措施之一是禁止向我国出口光刻机。其原因在于，光刻机在芯片制造过程中起到重要作用，若不加限制，可能对我国产生不良影响。

正是因为上述原因，所以美国也是在国际上，对光刻机巨头进行施压，要求对方禁止向我国并提供光刻机。而面对西方国家的威慑，许多企业不得不断绝与中国之间的联系。

此举无疑给我国芯片发展造成了一定的影响。然而我国并没有选择坐以待毙，而是选择迎难而上，用自己的双手打败敌人。既然国外无法向我国提供光刻机，那我国就自己做。

虽然这个过程充满了艰辛，但我国并没有选择放弃，最终在我国的不懈努力下，我国的国产光刻机也是传出了喜讯，就在今年9月份的时候，工信部也是发表了今年的重大技术设备推广，而就在目录当中我国网友也是发现了令人震惊的一幕，在这份推广目录上，我们居然发现国产光刻机的存在。

不仅如此，看旁边的介绍，我们更是震惊地发现，在介绍的两款DUV光刻机当中，氟化氩的分辨率达到了65nm，而这也就意味着用该光刻机制作的芯片精度更高，虽然说怎样的精度以国际先进芯片相比还有一定的差距，但正所谓万事开头难，只有走出了第一步，剩下的道路就会变得十分顺畅。

——【·国内外的反映·】——

就在我国官宣国产光刻机问世的时候，也是引起了国内外的极大关注，毕竟当初美国联合其他国家对我国实施芯片制裁的时候，也是在国际上引发关注。

对此各国网友也是纷纷发表了自己的意见，但其中绝大多数网友在对中国国产光刻机问世感到震惊的同时，也对中国产生了质疑，为何在遭受了制裁后，还能有如此旺盛的发展趋势。

与此同时许多网友也是对中国的光刻机发展表示祝福，而与网友感受不同的是，美国、荷兰在其中完全就是充当了一个小丑的角色。之所以有这样的认知是因为，当初美国在芯片上展开制裁，限制我国获取芯片，可结果，我国在芯片领域取得了巨大的突破。

眼见如此，美国也是将目标对准了光刻机，随后就伙同光刻机企业禁止向我国出售光刻机，本以为这样就能极大地限制我国芯片的发展，可没想到却意外促进了我国国产光刻机的问世。

而国产光刻机的出现无疑是狠狠打了美国、荷兰的脸。

荷兰凭借光刻机研发制造优势，使ASML在此行业中堪称翘楚。此次国产光刻机的面世将如何牵动市场波动？

而要说起来的话，国产光刻机的问世在短时间内不会对ASML造成太大的冲击，之所以如此还要从这次国产光刻机的参数说起，氟化氩光刻机，其分辨率小于等于65nm，虽然分辨率并不是很低，但其套刻精度达到了8nm及以下，而这也就意味着生产28nm级别的芯片没有太大压力。

但与ASML所生产的DUV光刻机相比，还存在不小的差距，而想要缩小差距，国产光刻机还有很长的路要走。

——【·国产光刻机的发展趋势·】——

本土光刻机虽有待提升至国际领先水平，然创新突破所带来的影响却极其重大且深远。此外，这项创新成果对于全球芯片市场无疑产生了重要冲击，过去，全球芯片产业主导权掌握在欧美等部分西方国家手中，我国企业在此背景下处于劣势，但如今，国产DUV光刻机的诞生将改变原有垄断局面，增强我国企业的话语权。

同时，这一光刻机技术的创新，亦将带动全球芯片行业形成竞争压力，刺激各国增加研发投资，加快技术革新步伐，从而引领全球芯片产业走向高端化和智能化。

虽说国产光刻机的问世有着如因此多的影响，但我们也需要清楚地意识到，国产光刻机的未来发展依旧困难重重，而这就需要我国科研人员加大研究力度。

总的来说，国产DUV光刻机的技术突破标志着我国芯片研发历程中的新起点。

未来，中国半导体行业仍需面对诸多挑战如EUV高端光刻机研制、芯片设计水平提高以及产业链健全等。

然而，只要坚守自主创新和开放合作的理念，我们有理由相信，中国芯片的前景必定一片广阔。

正所谓“雄关漫道真如铁”。中国芯的征程是极致之境，我们期待在不久的将来，全球能见证到更多来自中国的“芯”的光芒，为人类科技进步展现中国实力！

信息来源：

环球网，日媒：上半年，中国购买芯片设备超250 亿美元

钛媒体APP 全面禁光刻机和先进技术!美国联手荷兰 扩大对华芯片出口限制，今年中国已”扫货“250亿美金|硅基世界

中华人民共和国工业和信息化部《工业和信息化部关于印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》的通知》