现代工业大家会想到各种先进的设备,飞机、汽车、手机、电脑等等。们的“大脑”你知道是什么吗?那就是芯片!芯片在我们的生活中无处不在,几乎每个电子设备都离不开它,可以说是现代科技的“粮食”。
要制造芯片,必须依赖一种非常重要的设备,那就是光刻机。光刻机在半导体制造的过程中扮演着至关重要的角色,它被誉为半导体行业的“皇冠明珠”。可以这么说,没有光刻机,就没有今天我们用得如此顺畅的芯片。掌握了先进的芯片制造技术和光刻机,就意味着掌握了科技发展的主动权,可以主导未来科技走向。美国作为半导体技术的发源地,一直在这个领域占据着举足轻重的地位。美国不但拥有大量的技术和专利,还通过这些技术和零部件,渗透到全球半导体产业链的每个环节,对台积电、三星、ASML等世界级企业都能产生深远影响。大家都知道,半导体技术是一项超级复杂的技术,涉及到从设计、制造到测试的一系列环节,美国在这一过程中起到了引领作用。ASML,作为全球光刻机领域的老大,在全球半导体产业中占据着几乎无法撼动的地位。可以说,ASML的每一台高端光刻机都是科技界的“奢侈品”,它掌握着最先进的光刻技术,几乎垄断了全球市场。而在美国的压力下,ASML曾经对中国大陆市场做出了限制,停止了部分高端光刻机的销售,甚至宣布停止为部分设备提供售后服务。我们中国的应对可不是吃素的。正是在这番外部压力下,中国的光刻机技术开始迎头赶上。虽然前路艰难,但中国在光刻机领域的突破,给了我们不少惊喜。比如,中国工信部推出了氟化氩光刻机,并成功研发出了首台DUV光刻机,其技术突破达到了8nm以下的精度,分辨率甚至低于65nm。过去十多年里,我们几乎完全依赖进口。ASML、尼康、佳能等外资企业,几乎垄断了整个市场。中国在光刻机领域,一度像是一个“空白地带”。但是,随着国内科技水平的逐步提升,中国终于迎来了属于自己的光刻机“春天”。如今,国产光刻机的成功研发,意味着我们在这一领域的空白正在逐步被填补。虽然目前我们还无法和ASML那种顶尖设备匹敌,但我们已经在一步步赶超过去,特别是在某些技术领域的突破,完全改变了过去依赖进口设备的局面。现在的中国,已经不再是那个只能依赖外资设备的“芯片跟随者”,而是站在了全球半导体产业链的“前沿阵地”。虽然光刻机的技术难关还没有完全攻克,但我们已经在加速突破的路上。可以预见,未来不久,我们就能够实现完全自主的芯片生产和技术研发,不再受制于任何外部因素。