中秋节的第一天，没想到却传来了这样的好消息，我国在重重的技术封锁之下，工信部DUV光刻机官宣，套刻≤8nm，虽然与国外先进的光刻机存在比较大的代差。但是对于我国光刻机方面，这是一个不小的进展。

在推广目录中我们可以明确的看到，氟化氩193nm波长、8nm的套刻精度光刻机已经进入推广目录。这也打脸了一堆唱衰我国的人

到现在还记得，原中科大物理学教授朱士尧在接受采访的时候大放厥词，对着媒体和广大国人表示中国永远也不可能造出高端光刻机。现在想想真的是打脸，希望哪个媒体再去采访采访他？让他把吐出去的唾沫在舔回来

还记得在2021年的时候北京大学名誉院长林毅夫教授，表示他们所有人都不卖中国光刻机，但是在3年后我国必定能够造出来，如今这样的话也应验了。

要知道从2018年美国为了阻止中国研发光刻机，可以说是无所不用其极，伙同各个西方国家，各种难为中国，在9月7日的时候，荷兰的时候，政府还宣布比较先进的光科技设备出口到欧盟以外的国家需要得到政府的特别批准。在打压中国上，可以说是设置了层层的壁垒

如今我国在研发上取得众多重大突破，这样的消息传到美国，瞬间让美国网友乱了，他们在各大论坛上，甚至大放厥词，称没有美国的允许，中国为什么敢私自研发光刻机？真以为自己世界警察啥都要管？