34亿一台的芯片光刻机超级怪兽要来了!
据悉,全球第三台High-NA EUV光刻机即将落地台积电工厂,后者开始为生产1纳米芯片做准备。
一旦能达成量产,又要大幅拉大和我们差距了!
台积电购买光刻机
众所皆知,阿斯麦作为全球光刻机巨头,尤其在EUV光刻机领域,更是独领风骚。
如果说,光刻机是人类半导体工业皇冠上的明珠,那么阿斯麦就相当于握着最亮明珠的那个厂商。
此前阿斯麦对外公布了最新的产品,也就是High-NA EUV光刻机。
据了解,这台光刻机重达150吨,组装起来比卡车还大,需要被分装在 250 个单独的板条箱中进行运输,其中包括 13 个大型集装箱。
相较之前版本的光刻机,High-NA EUV最大的优势在于增大了数值孔径,由之前的0.33提升到了0.55。
所谓数值孔径,指的是用来衡量光学系统能够收集光的角度范围的参数。
简单来说,这个数值越大,光学系统的分辨率也就越小,从而能制造出更先进制程的芯片。
同时,又能大幅降低多重曝光带来的成本,生产效率和良品率也变得更高。
举个例子哈,之前可能每小时才能生产150片晶圆,但现在可以提高到300片,非常的夸张。
据了解,这台光刻机目前支持2nm量产,到2029年可以支持1nm的量产。
如果采用多重曝光,未来5埃米(也就是0.5nm)制程的量产,也是没问题的。
虽然有许多人预测摩尔定律即将终结,但High-NA EUV的推出再次延续了这一规律,为芯片行业提供了更长远的创新动力。
这么好的东西,对于全球晶圆代工龙头的台积电来说,当然想要,而且多多益善。
据台媒《经济日报》报道,全球第三台High-NA EUV光刻机即将落地台积电工厂。
虽然前两台都卖给了英特尔,但后者买了也是浪费,因为后续还是要找台积电代工。
众所皆知,台积电可是阿斯麦的超级VIP大客户,拥有80多台EUV光刻机,占据阿斯麦出货所有EUV数量的一半以上。
相关数据显示,在全球前十大晶圆代工营收排名中,台积电一家独占市场份额超六成。
特别是在7nm及以下的制程,更是独领风骚。
为了保持行业领先地位,台积电每年都是投入巨资进行研发。
据悉,从7nm到5nm、再到3nm的转换,台积电前前后后至少花费了300亿美元,约合人民币2000多亿。
对于半导体产业来说,2nm制程技术的实现将开启一个新的时代。
未来随着人工智能、物联网、自动驾驶、量子计算等领域的迅速发展,先进芯片将成为各行各业的核心竞争力。
谁能在最短时间内掌握最前沿的光刻技术,谁就有可能取得更大的市场优势。
而此次引入High-NA EUV光刻机,标志着台积电为未来2nm甚至1nm制程打下了坚实基础,无疑是继续保持领先地位的关键一环。
值得一提的是,此前台积电嫌弃High-NA EUV光刻机价格太贵了,信誓旦旦的表示就用之前的标准EUV光刻机就行。
对台积电来说,任何大规模技术升级都会影响整体资本支出,特别是在短期内它们可能不会显著提高生产收益的情况下。
之前还有分析师预测,台积电可能要到 2030 年甚至更晚才会采用这项技术。
但是后来台积电还是怂了,不得不重新评估自己的策略,估计是看到英特尔买了两台回家,心里心痒痒的。
近几年,英特尔宣布了“IDM 2.0”战略,旨在通过新技术布局,重夺先进制程的领先地位,于是最先进的光刻设备,便变得关键中的关键。
特别是这次,英特尔竟然一口气购买了两台High-NA EUV光刻机。
英特尔这些举动无疑就是向台积电炫耀,如果台积电不紧跟潮流,很可能在精度、速度和生产效率上被英特尔迎头赶上。
所以,对于台积电而言,即使价格再贵,也要买。
结尾
但台积电购买的这台High NA EUV光刻机,还不算是阿斯麦的压轴菜。
据说,更厉害的Hyper-NA EUV光刻机,正在加紧研发,数值孔径将进一步的提高。
根据阿斯麦的预估,最快将在2030年推出,可支持2埃米量产,也就是0.2nm。
根据资料显示,ASML标准数值孔径的EUV光刻机(NXE系列)目前售价约为1.83亿美元,而High NA EUV光刻机(EXE:5000)的售价约为3.8亿美元。
而未来的Hyper NA光刻机,价格恐超过7.6亿美元。
不过,还是那句话,一分钱一分货嘛,相信届时又会出现神仙打架的情景咯。
怕啥,我国网友早就看破他们把戏: 只是等效2纳米,实际只有45纳米。我们一样用十次重复曝光可以做2.01纳米。差距微乎其微。