从“芯战”开始之后，美西方就一直严格管控着光刻机对大陆市场的出口，最初是禁运ASML最先进的EUV光刻机，但在最近两年，美方不断修改芯片规则，并且与日、荷签订三方协议，持续收紧封锁范围，现在就连2000i等中端DUV设备也被彻底“卡死”了。

在美霸主主义看来，光刻机的芯片制造不可或缺的设备，其构造极其复杂，被誉为人类科技的巅峰，大陆凭借一己之力很难完成突破。所以他们便把光刻机当成了争夺科技霸权的“工具”，企图以此来限制大陆芯片产业的发展。

不可否认，美方祭出的这个“狠招”的确给我们带来了不小的麻烦，一度导致国内芯片产业暂停在了28nm以上的成熟工艺。但正如王传福所说，芯片是人造的，不是神造的！中国科学家连“两弹一星”和“国际空间站”这样庞大的工程都能搞定，何况小小的芯片？

事实也的确如此，在华为等中企的团结努力下，美西方给我们造成的芯片“暂停”并未持续太久。2023年8月份，在没有任何征兆的情况下，麒麟芯片突然再度横空出世，至此，国产芯片吹起了“反攻”的号角。

而在接下来的一年多时间里，华为又接连推出了两款麒麟芯片，且性能表现愈发强悍。例如Mate 70系列搭载的麒麟9020，虽说只有7nm制程，可其实际表现却不比高通的4nm骁龙8+逊色。

最关键的是，华为没有像之前那样对芯片等配置参数有所隐瞒，而且还公开发声，称所有芯片都已具备了国产能力。这意味着，在没有EUV光刻机的情况下，国内至少已搭建出了自主可控的7nm芯片供应链，不再担心美西方的制裁。

更让人感到振奋的是，哈工大在EUV光刻机“赛道”也传来了破冰的消息，樊继壮教授带领研发团队采用放电等离子技术，成功制备出了13.5nmEUV光源。

此消息一出，业界瞬间沸腾了，因为相比ASML，我们此次制备的EUV光源转换率高、体积小，造价也更低！正如新加坡毕盛资产管理创始人王国辉所说，中国拥有丰富的人才储备和庞大的内需市场，一旦打破EUV光刻机垄断，中芯国际未来或可比肩台积电，“芯战”也会就此结束。

这就是哈工大在EUV光源技术领域此次取得突破的重大意义，将会在很大程度上推动国产EUV的问世进程，让我们彻底摆脱对ASML等美西方巨头的依赖，从根本上实现高精尖芯片的国产化替代。

反观光刻机“霸主”ASML，如今似乎有些坐不住了。据路透社报道消息显示，就在1月17日，荷兰ASML突然宣布，对于它在大陆市场的具体销售数据，如光刻机出货数量以及型号，接下来将不再对外公布。

隐瞒在华销售数据，ASML究竟想干什么？对此，不少业内人士猜测，它可能是要“暗度陈仓”。原因很简单，ASML无法承受失去大陆市场的代价，为绕开限制，它只能采取一些特别的办法。

数据说明一切，仅是2024年前三个季度，ASML在大陆的销售额就超过了70亿欧元，占其全球营收将近50%！可美方近年来却持续升级制裁，不仅高端EUV不让卖、就连中低端DUV也设置了很多条条框框，ASML能不着急吗？

当然，ASML具体怎么来“暗度陈仓”，2025年便能见分晓。只不过，对于大陆半导体产业而言，无论ASML怎么做，其实都不会产生太大的影响。因为经历了芯片“卡脖子”之痛后，国内已认清现实，在核心技术领域不再抱有幻想。

沿着自主化的道路，我国在光刻机领域正加速突破，精度为65nm的氟化氩光刻机已经开始量产，可满足成熟芯片工艺的生产。现如今只剩下EUV这道技术壁垒，伴随着光源完成制备，整机落地估计也只是不太久的时间问题。正因如此，外媒才会说“大势已定”！