ALD是一种特殊的CVD技术，其与CVD的区别在于CVD的化学反应发生在气相中或者衬底表面，而ALD仅发生在衬底表面；CVD在时间和空间上均在持续向衬底输送反应物，而ALD则是通过顺序逐次暴露反应物，在分隔的时间内进行淀积。

ALD的沉积速率较低，因为每次只沉积一层原子或分子厚度。CVD的沉积速率较高，可一次性沉积较厚的薄膜层。ALD具有高度精确的沉积控制能力，可实现单原子层的均匀沉积。CVD的沉积过程受到温度、气压等因素的影响较大，控制能力相对较弱。

工艺机制方面

ALD：其过程是有序且自我限制的。两种或多种前驱体气体交替进入反应室，每种前驱体依次与基底或之前沉积的层发生反应，形成化学吸附单层。待表面完全饱和后，清除多余前驱体和副产物，再引入下一种前驱体，如此循环，直至达到期望的薄膜厚度。这种方式很适合制造含多个原子层的薄膜，尤其适用于需要极薄薄膜（10 - 50 纳米）或者高纵横比结构的应用场景。CVD：通过气态前驱体的反应在基底上沉积薄膜，前驱体通常是同时引入反应室，并且该过程一般需要高温来推动反应进行。它更利于以较高速度沉积较厚的薄膜，能使用的前驱体范围更广，包括那些在沉积过程中会分解的前驱体。

控制和精度方面

ALD：其连续性能够实现对薄膜的厚度、成分以及掺杂水平进行精确控制。这种高精度控制对于制造特征尺寸不断变小、性能要求日益提高的先进 CMOS 器件有着极为重要的意义。CVD：尽管 CVD 具备出色的均匀性，也在 CMOS 技术中被广泛应用，但它缺少 ALD 那样的原子级控制能力。由于 CVD 中前驱体是同时反应的，容易导致薄膜沉积出现不均匀以及不可控的情况，特别是在面对复杂几何形状或者需要精确厚度控制的情形时尤为明显。

温度和反应条件方面

ALD：反应是在受控的温度范围内开展，这对于维持工艺的自限性非常关键。这样的受控环境可保证每种前驱体仅与可用的表面位点发生反应，能防止过饱和现象，确保高一致性。CVD：通常要使用较高的温度使原子气化并引发化学反应，而这种高温工艺会对可使用的基底类型有所限制，还可能影响到沉积薄膜在均匀性和一致性方面的质量。

应用和适用性方面

ALD：凭借其顺序式自限制工艺，能对薄膜厚度和一致性实现出色控制，所以特别适合那些对精确性和一致性要求较高的应用，例如先进的半导体制造领域。CVD：更适用于需要高沉积速率以及更厚薄膜的应用场景，但在对薄膜特性的控制方面相对较弱。