半导体技术诞生于美国，并在老美的推动下发扬光大。凭借着芯片领域的先发优势，许多美企在半导体细分领域占领了高地，并且依靠背后持股、技术授权等方式在全球赚得盆满钵满。分土必争的老美自然不允许他人闯进自己的舒适区。所以当华为在半导体领域打破西方垄断之后，老美的芯片禁令犹如一颗子弹一般，射向了华为，也射向了中国芯片行业。

过去两年的时间，老美似乎低估了中国的研发实力，虽然没有EUV光刻机，但仅凭没有限制的设备我国就实现了14nm工艺芯片的量产，掌握住了芯片行业的基本盘。所以从去年10月开始，老美联合日本、荷兰这两个拥有中高端光刻机制造技术的国家达成了三方协议，目的就是限制14nm芯片相关设备，保证美芯片技术的“绝对领先”！

不像迫于压力，更像正中下怀，日本祭出“最严禁令”，对23种相关芯片制造设备实施出口管制，这些设备几乎涵盖了整个芯片制造产业链，还追加了多种关键半导体材料。

相对而言，光刻机领头羊荷兰ASML对中国市场还依依不舍，比如ASML总裁访华并表达了肯定的态度，当老美升级禁令时不忘警告中国市场的重要性。毕竟我国不仅拥有全球最大的芯片市场，同时还在成为全球最大的芯片制造国家之一，ASML的高端EUV光刻机无法进入大陆市场，DUV再被断供，必然会影响其后续的投资与创新力度。

就当不少人对ASML中高端DUV光刻机抱以美好幻想时，光刻机闹剧结束了！美国、荷兰接连亮明了态度！

据央媒发文表示，6月30日荷兰ASML发布了最新公告，最先进的浸没式DUV光刻机出口需要得到荷兰政府的许可。并且报道称，老美预计将更进一步，利用其广泛影响力阻止“特定中国厂商”获得更多的荷兰设备。而ASML也随即发布公告称，由于法律规定，ASML出口浸润式DUV光刻机系统TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统，需要得到荷兰的申请许可。

不仅如此，除了DUV光刻机之外，此前英伟达为规避美制裁推出了中国定制版的A800 GPU芯片，针对这种定制版芯片也被列入了管控清单中，目的也是进一步遏制我国人工智能、超算等方面的发展，这对于我国网信产业来说，同样不是一件好事。

对此，不少外媒嘲讽道：没有ASML的DUV光刻机，没有全球化的支持，中国芯片或倒退10年！其实老美对我国半导体产业发动的战，不仅包含禁售，技术压制，同时还包括舆论压制。中国集成电路行业确实会受到一些影响，但倒退10年却略显夸张！

从北斗、空间站、万吨大驱，到大飞机，历史再三证明，和自由竞争市场经济规律对着干，一定会迎来创新者的反抗，最终会反噬自身。技术需要市场，否则一文不值，而中国有全球最大的芯片消费市场，一味地与中国市场脱钩断链，必然会影响企业后续的投入与持续创新，最终把自己推向深渊。

况且国产90nm光刻机已经实现量产，28nm精度光刻机取得技术验证，而中科院、国内科技企业也在有条不紊地解决光刻“套娃式”的难题，比如目前哈工大已经突破了EUV光刻机所需要的DPP-EUV光源，中科院EUV光源工程样机也能达到每小时60-70片12英寸晶圆。虽然有些技术还没走出实验室，产能与ASML相比略显不足，架不住我国迭代更新速度快。

对于国人而言，面对老美的步步紧逼，我们不必过于悲观，任何事情都有两面性，金一南说过这样一句话“小成功需要朋友，大成功需要敌人”。老美天天来找茬，反而能倒逼中企快速进步，我国有充足的研发经费，有浴血奋战的科研人员，更有足够大的市场，国产芯片必然能打破技术封锁，相信时间不会太远！