最近，工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中，两款国产光刻机的信息引起了广泛关注。特别是那款氟化氩光刻机，更是成为了大家热议的焦点。网上关于它能做多少纳米（nm）芯片的讨论热闹非凡，有人说8nm，有人说14nm，还有人认为最多只能到28nm。

那么问题来了，这款国产光刻机到底能生产出多少NM的芯片？首先，我们要明白光刻机是干啥的。简单来说，光刻机就是用光在硅片上“画”出芯片电路的机器。光的波长越短，画出来的电路就越细，芯片也就越先进。而这款氟化氩光刻机，用的光波长是193nm，属于深紫外（DUV）光刻机里的高手。它的分辨率能达到65nm，套刻精度更是厉害，小于等于8nm。这意味着，在理论上，它能画出非常精细的电路，接近8nm的水平。

但别急，理论归理论，实际操作起来可没那么简单。就像你有个高级画笔，但不一定能画出大师级的画一样。这款光刻机虽然能“画”出8nm的电路，但真正要量产8nm芯片，良品率会非常低，成本也会高到吓人。所以，它并不适合直接用来生产8nm芯片。

那14nm呢？虽然通过一些技术手段，比如多次曝光，它有可能做出14nm的芯片，但效率和成本都是大问题。相比之下，中芯国际用更高级的光刻机已经能稳定量产14nm芯片了。

其实，这款光刻机最适合的还是28nm工艺。为什么这么说？因为28nm技术成熟，良品率高，生产成本也相对较低。更重要的是，28nm芯片在我国市场需求巨大，广泛应用于智能家电、汽车电子、物联网等领域。如果这款光刻机能成功量产28nm芯片，那对我国半导体行业来说，绝对是个大利好。

总的来说，这款65nm氟化氩光刻机的出现，是我国光刻机技术的一大进步。虽然它离顶尖水平还有距离，但已经能够满足国内不少工业需求了。未来，随着技术的不断进步，相信国产光刻机一定能在更高端的领域发光发热，为我国半导体行业的自主发展贡献力量。

所以，别小看这款光刻机，它可是咱们迈向芯片自主可控之路上的一块重要基石。认同的朋友们，点个赞，转发一下，让更多人了解这个好消息吧！