芯片从设计到生产是一项庞大的工程，然而单光刻过程就占据了整个芯片制造成本的三分之一，消耗的时间更是占据整个芯片工艺的一半，而在光刻过程中，必不可少的设备就是光刻机。

在光刻机领域，荷兰ASML是这一金字塔最顶尖的企业，不仅垄断了用户制造尖端芯片的EUV光刻机，在中高端DUV市场也有着很高的话语权。不过除了ASML，还有一些企业能在光刻机市场分得一杯羹，比如日本的尼康、佳能，还有我国光刻机巨头上海微电子。

中西科技竞争日益加剧，老美层层加码，所以上海微电子得到了众人的瞩目！

近期，国内一家芯片厂传来出消息，首台上海微电子（SMEE）光刻机顺利搬入！这家企业名为昆山同兴达，重点是这家芯片厂成立才1年多，这是深圳同兴达的子公司。据悉，母公司主要从事研发、生产、LCD液晶显示模组和摄像头显示模组，并且在驱动IC应用领域深耕多年，是一家国家级高新科技企业。此次引入上海微电子光刻机，计划于3月份完成设备调试和产品试产，5月开始规模量产。

关于此事，有几个问题引起了许多人的关注！

首先，这台光刻机。据介绍，这是一台上海微电子的金凸块封测光刻机，什么意思呢？芯片产业的快速发展，芯片功能、频率越来越高，芯片对电性传输和散热能力的要求也随之提高，封装也逐渐从以前的针脚演变成了现在的金属凸块，而在金属凸块中，金凸块则是以黄金为凸块材料，不管是电性传输还是散热能力，优势都更大。据介绍，昆山同兴达这首台金凸块封测光刻机，具有很强的延展性，可以实现与先进工艺芯片相似的功能，也就是说这是一台中高端封测光刻机。

在封装光刻机方面，中企的实力其实并不亚于荷兰的ASML，在国内封测市场，上海微电子有着高达80%左右的市场占有率，即便全球市场，占有率也达到了40%。2022年2月，上海微电子首台2.5D/3D封装光刻机正式交付客户，而这台封装光刻机，已经能够完成对数据中心高性能芯片，高端AI芯片等高密度异构集成芯片的封测，行业同类产品已经达到了最高水平。所以在封测环节，我国其实早已摆脱了对西方的依赖。

其次，昆山同兴达成立才1年多，为何发展如此迅猛？其实有老美的“功劳”。芯片行业门槛非常高，但是老美却给了许多企业一张“入场券”，美芯片禁令让许多国内企业意识到了芯片自主、可控的重要性，我国还制定了2025年70%芯片自给率的目标，结合工艺短缺所引起的缺芯潮，原来进不了芯片行业的企业纷纷涌入这一赛道，这也意味着国产芯片各环节已经开始加速！

最后，国产光刻机如何突围？在用于芯片制造环节的前道光刻机方面，这是我国芯片制造产业链急需突破的一环。根据此前上海公布的信息显示，我国已经实现了90nm精度的前道光刻机，此前上海微电子28nmDUV光刻机通过了技术认证，但迟迟没有出现光刻机验收、出货的消息，而老美去年12月还将该企业列入“实体清单”。

不过近期有消息称，上海微电子正在精心打磨28nmDUV光刻机，其中光源方面已经与国内企业展开了紧密合作，而且消息人士透露，不仅28nm，14nm光刻机也在研制、调试中。毕竟光刻机所需要的双工件台，中企已经打破了ASML的垄断，蚀刻机、显影机、封测机、半导体材料方面同样摆脱了老美的牵制，甚至获得了国际客户的认可。这些零部件与上下游产业链及材料的国产化，意味着国产DUV光刻机量产在即，打造中高端纯国产芯片指日可待！

这并不是盲目的自信，当老美与日、荷联合，即便ASML的CEO就表示，中国一定能研发出先进芯片制造设备，因为物理定律就在那里，而且中国科研投入正在追赶世界第一的美国！

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