自从“芯战”拉开帷幕后，光刻机就成了中美博弈的焦点。作为芯片制造的核心设备，光刻机设备之于芯片可谓是“手术刀”般的存在，其先进程度，与芯片的制程工艺和良率息息相关。

全球能够生产光刻机的厂商本就寥寥无几，而在中高端领域，能够挑起大梁的更是只有荷兰ASML这一企业。凭借着数十年的沉淀，ASML几乎包揽了光刻机市场超90%的份额，尤其是它研发的EUV光刻机，代表着行业最高水准。

对于这样关乎全球芯片格局的“独角兽”，美方可以说时刻都在紧盯着，生怕一个不小心，ASML就把先进的光刻机设备卖给了中企，从而打乱其遏制中国半导体产业发展的计划。

正因如此，美国近些年频繁修改半导体规则，在“锁死”EUV光刻机的基础上，又在去年底与日、荷签订了三方协议，进一步扩大对核心设备材料的限制范围。至此，就连很多普通的DUV光刻机，ASML也不再卖给我们了。

不仅如此，环球时报等多家权威媒体前不久还爆出猛料，称由于美国不断施压，荷兰ASML计划停止对中国客户的光刻机进行维修，预计至2024年，这些光刻机就无法运行了。很显然，美西方是妄图用光刻机这把“利刃”，来彻底堵死中国芯片产业的出路。

只不过，让美荷做梦也没想到的是，他们的“光刻机讹诈”适得其反，非但没能起到预想的效果，反而进一步加快了中国半导体产业自给自足的步伐。尤其对光刻机的研发，我国投入了大量的资源和优势科研力量，现如今更是取得了不俗的成果。

9月初，在工信部公布的重大技术装备推广应用指导目录中，那台氟化氩光刻机尤为引人注目，其波长为193nm，分辨率≤65nm、套刻精度≤8nm，属于深紫外DUV光刻机的范畴，可用于20nm等成熟工艺芯片的制造。

该项突破可谓意义重大，它不仅让我们在成熟芯片领域有了保障，不用再惧怕美荷针对中企停止光刻机检修等售后服务的举动，更为国产光刻机未来向高端迈进积累了宝贵的经验！

然而，就在国产光刻机加速爬坡破冰、并且取得阶段性进展的关键时刻，美荷两国却对此给予了“强烈批评”。他们借助媒体大肆炒作，称中国厂商在光刻机领域所取得的这些“突破”，完全是“剽窃”了西方国家的技术成果。

为了把戏演得更逼的更像，他们除了强行给我们扣上“抄袭”的帽子之外，甚至还邀请了不少“专家”，从所谓的技术角度对我们的光刻机设备指指点点，妄图以此来证明中国没有制造中高端光刻机的能力。

很显然，美荷已经开始着急了，他们“批评”的越起劲，说明他们心里越慌。原因很简单，我国在光刻机领域的持续突破，宛如一把利刃，直接插入了美西方科技霸权的“心脏”。

有了自主可控的光刻机，我们的芯片产能就有了保障，自给率也必将再创新高。届时，不仅美芯在大陆市场的销量会大幅下滑，荷兰的光刻机设备恐怕也不会再像以前那样受欢迎了。

要知道，中国拥有全球最完善的工业体系和上万亿的市场规模，在这片肥沃的土壤，任何设备材料只要“生根发芽”，基本都会快速成长。盾构机就是最好的证明，光刻机自然也不会例外。

最关键的是，但凡是被中国攻克的技术，其产品价格在国际市场都会被打下来。这是美荷最担心的情况，但他们却又无法阻挡这一天的到来！