发明光刻机技术的人真是天才，但能绕过光刻技术壁垒，另起炉灶的人更是天才！

光刻机—人类智慧皇冠上的“明珠”，这是芯片制造过程中不可或缺的设备，设备的精度直接决定着芯片的先进程度。然而目前全球最先进的极紫外光刻机（EUV）技术却被荷兰光刻机巨头ASML所垄断，市场占比高达100%。

由于ASML背后有美资本背书，其供应链包含大量美技术，所以美开始“挟天子以令诸侯”，控制EUV光刻机的出货，从而控制全球先进芯片的生产和供应链。然而美通过芯片大棒搅动行业风云，却促使许多国家开始推动芯片产业链自主可控。

比如欧洲17个国家签署了斥资千亿欧元扶持本土芯片产业，建立全新的“去美化”芯片产业链。日本也不甘落后，举起了“芯片自主复兴”的大旗，势要从美主导的技术格局中重新独立，夺回过去十余年在芯片领域所失去的优势地位。

日本宣布EUV光刻新技术

而近期，日本更是传出了一条炸裂消息！

根据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）公布的报告显示，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻机技术，该技术超越了半导体制造的标准界限，基于该技术设计的光刻机，可以采用更小的EUV光源，功耗仅为传统EUV光刻机的10%，不仅运营成本大幅降低，而且还有更长的使用寿命、更高的可靠性和更低的价格。

据日本冲绳大学津守教授表示，该技术通过创新的方式解决了此前被认为无法攻克的两个难题，第一个是该光刻机光学投影系统仅用两个镜子组成，传统EUV光刻机需1%光源经10面镜达晶圆，要求高能量，新系统限4面镜，超10%能量直达晶圆，显著降低了输出功率。

另一个，在降低功耗的同时，该团队还设计了一种“双线场”的新型照明光学方法，该方法使用EUV光从正面照射平面镜光掩模，却不会干扰光路。

简单来说，就是简化光学系统，提高能量利用率，符合环保和可持续发展要求，此举为我国攻克光刻机难题提供了技术启示，也激发了国内科研机构和企业对新材料、新技术、新工艺和新设计的探索和创新。

“去美化”不等于“国产化”

此时，不少网友可能又有了“造不如买”的思想。长远来看，依赖进口并非长久之计，但在国产芯片需要光刻机的紧迫局势下，这不失为一种快速解决芯片卡脖子问题思路。

多年来日本在许多技术领域采用的是垂直整合模式，虽然有可能点错技能树，但确实有自己的技术路线，何况 ASML的成立本身就是另辟蹊径规避尼康、佳能的发展路线，通过浸润式光刻机逐步蚕食掉了日本半导体设备市场份额。所以冲绳大学团队所设计的EUV光刻技术，单从技术层面而言大概率不受美国的长臂管辖。

此外，对于中国芯片产业链而言，我们所谓的“去美化”并不能与“国产化”画上等号，这需要两步走，一方面去美化，需要加速核心技术的国产替代，从上游环节实现技术的自主可控；另一方面也需要全球化，在减少美系技术的同时加强与国际友商”之间的合作，拉近与日本相关科技企业与科研机构的距离。

毕竟日本在芯片产业上的实力不容忽视，在全球半导体20强企业中，日本最多。最后如果研发成功，日本会不会对外出口，我相信，企业甚至国家要的是正向发展，即便千难险阻，他们依旧可能会用脚投票。

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