全球芯片市场，其实我国早已跃居世界第一梯队，尤其是华为的海思半导体，5nm初期就已将牙膏彻底挤爆，并将5nm芯片做到了行业顶尖水平，即便两年多过去了，那颗麒麟9000依旧是5G SOC领域的香饽饽，这就体现出了芯片设计的重要性。

芯片的诞生首先要设计，这样后续工作才能正常展开，而设计的第一步，就需要用到EDA工具。在EDA市场，新思科技是全球最大的EDA提供商，外加上Cadence和Mentor Graphics，三大美EDA巨头在国内占据了90%的市场份额。正是如此，“EDA出口禁令”也成了老美钳制华为等国内IC企业快速崛起的重要手段。

华中科大正式宣布

然而，让国人感到兴奋的是，我国芯片行业迎来了一则好消息，华中科技大学机械学院柳世元教授团队正式宣布，成功研发出了我国首款完全自主、可控的OPC软件，且已经在对接的企业实现了成果转化与产业化！这是什么意思呢？又有什么重要意义呢？

行业内一直有这样的说法：光刻机是“芯片之父”，EDA是“芯片之母”。EDA就好比设计师所用的Photoshop，剪辑师所用的PR。对于芯片研发企业而言，在芯片动不动就容纳上百亿颗晶体管的时代，如果没有专业的EDA工具，芯片之路寸步难行！

EDA工具并非是一个小软件，而是由千百个小软件串联而成，比如模拟电路设计全流程工具、数字电路设计工具，平板显示电路设计全流程工具，晶圆制造软件等，还有华中科技大学此次所突破的OPC软件。

所谓OPC，这是“Optical Proximity Correction”的缩写，翻译为模拟光学邻近效应修正。光刻机制造芯片过程极为复杂，但我们可以简单总结为利用光化学反应在晶圆上制作纳米或微米级精度的图形的过程，类似于过去胶卷照相机拍照之后的冲印过程。

OPC软件就是利用计算来模拟光刻过程中的光学和化学过程，从理论上探索最小分辨率，工艺窗口的途径，从而为芯片工艺的提升提供技术支撑，比如从180nm向90nm突进，28nm向14nm突进等，必须借助于OPC软件的算法进行矫正、优化，如下图最后的环节。

很大程度上我们可以理解为，如果中企没有OPC软件，即便我们有和三星、台积电一样的EUV光刻机，但也只能停留在7nm，无法下探5nm、4nm制程工艺。

在OPC领域，市场完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion这三家公司所占领，如今华中科大柳世元教授团队在OPC领域打破西方技术壁垒，完全实现技术层面的独立自主，可谓是成功破冰，中国芯片发展过程中的又一里程碑！针对此事，多家央媒纷纷报道进行表扬并称：填补了国产EDA的空白！

是不是“扯虎皮拉大旗”？

芯片相关产业研发是一个缓慢的过程，并非有钱就可以一蹴而就，尤其这两年国家大力扶持集成电路行业，这种背景下不少网友调侃：是不是“扯虎皮拉大旗，打着革命的口号出来蒙骗”？这里就不得不提刘世元教授了！

他是华中科技大学集成电路测量装备研究中心、光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任，早期师从机械学家杨叔子院士，1998年就获得了工学博士学位。2002年作为我国最早的骨干加盟上海微电子承担国家863重大专项研制任务，也就是100nm光刻机任务，并且在光、机械环节解决了许多技术难题。

2016年，刘世元教授在德国召开的第七届国际光谱椭偏学大会上作了主题报告，并成为该学术会议创办23年来首位华人学者。截至目前，刘世元教授钻研电路计算光刻已经有20余年！

一行行的代码，一个个的公式，二十多年的坚持与执着，终于在我国卡脖子的环节取得了重大突破！这为国产芯片自给率的提升起到了至关重要的作用！

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