最近，新加坡的毕盛资产管理创始人王国辉在彭博电视台发声了，他看好中芯国际，觉得中芯国际能凭借本土优势，在全球市场和台积电一较高下，甚至有希望追平台积电的市值。

王国辉，这位在马来西亚出生的投资界老江湖，手握40多年的投资经验。2002年，他成立了毕盛资产管理有限公司，并逐渐将投资重心挪到了中国市场，对中国的发展非常了解。

最近，王国辉表示对中芯国际的未来发展充满信心，他认为中国市场潜力无限，中芯国际现在只缺一台国产EUV光刻机，一旦中国企业搞定这个技术，芯片界的竞争估计就要宣告结束了。

这番话的背后，正是因为我国国产EUV光刻机技术突破在望，中芯国际有望迎来飞跃式发展。

这次哈工大的技术突破的是13.5纳米波长的光源技术。

美国Cymer公司还在用老掉牙的LPP技术，而哈工大则创新地采用了DPP技术，也就是放电等离子体极紫外光刻光源。不同于荷兰的透镜技术，哈工大是通过粒子加速辐射来搞定极紫光。

这种新方法，展示了我国在光刻机领域的逆袭实力和飞速进步，效率更高，挑战更大，精度也更上一层楼！

从技术角度来说，想造出一台高端EUV光刻机，难度不是一般的大。但哈工大这次搞定的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目，正好解决了13.5纳米波长极紫外光的生成难题。

这技术一旦打磨成熟，能够大规模生产，就能直接填补国内EUV光刻光源的空缺，解决光刻机研发的一个关键难题。中芯国际现在技术上的瓶颈，就在极紫外（EUV）光刻机这块。

就像王国辉说的，中芯国际在等一台自家的EUV光刻机。

哈工大在光源技术上的突破，给我们指了一条新路，让我们看到了绕开ASML技术壁垒的可能性，自家造EUV光刻机不再是遥不可及的梦想，等国内芯片都能用上自家造的EUV光刻机，那中芯国际的发展速度就会像坐火箭一样快，规模和实力直线上升。

一旦国产光刻机性能达到国际水平，我们的成本优势立马凸显，性价比超高，芯片制造成本大幅下降。

掌握了这个关键技术，我们还能开拓更多应用领域，芯片代工制造将迎来飞速发展，中芯国际的产能和技术也将大步向前。

现在中芯国际已经开始降价抢市场了，降价力度前所未有，这说明国内芯片制造工艺质量在不断提升。5nm技术已经很牛了，如果EUV光刻机技术再升级，5nm以下技术的良率再提高，中国芯片就能在全球市场上所向披靡。

清华大学的法学博士蔡正元也预测，咱们自家的EUV光刻机有望在2028年之前亮相。按照这个时间表，中芯国际还得沉住气，再等几年，到时候就能和台积电一较高下。

不得不说，哈工大真是个创造奇迹的地方，培养了一代又一代的国家英才，这无疑给其他高校立了个标杆。

只有更多的高校像哈工大这样，敢于迎难而上、勇于创新，紧跟国家科技发展的脚步，才能为我国的科技事业输送更多新鲜血液和创新动力。这样，我们的国产EUV光刻机才能早日亮相！