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——【·前言·】——

华为、中芯国际，这些名字如雷贯耳，但它们也曾经历过至暗时刻。

因为芯片，确切地说是高端芯片制造所需的EUV光刻机，被“卡脖子”了。

美国的一纸禁令，让这些中国科技巨头举步维艰，也让全世界看到了美国遏制中国科技崛起的野心。

然而，中国并没有屈服。

最近，工信部发布的《2024版重大技术装备推广应用指导目录》就透露了一个重磅消息：中国自主研发的“氟化氩光刻机”取得重大突破，即将进入推广应用阶段。

这一消息让美荷直接破防了。

——【·突破7nm·】——

这台“氟化氩光刻机”究竟有何特别之处？

根据官方公布的技术参数，它采用193纳米波长的深紫外光刻技术，分辨率≤65纳米，套刻精度≤8纳米，最大可支持300纳米晶圆直径。

虽然与ASML的EUV光刻机相比，它的工艺制程还有一定差距，但结合华为之前研发的四重曝光工艺，完全可以满足5纳米芯片的生产需求。

要知道，中芯国际目前最先进的芯片制程工艺是7纳米。

而这次“氟化氩光刻机”被列入“首台（套）重大技术装备推广应用指导目录”，意味着它比7纳米更先进，很可能是中国首台5纳米光刻机！

这无疑是中国芯片制造技术发展历程中的一个重要里程碑，标志着中国在高端光刻机领域取得了重大突破。

“氟化氩光刻机”的横空出世，对全球芯片产业格局将产生深远影响。

长期以来，以美国为首的西方国家垄断了高端芯片制造技术，并将其作为遏制中国发展的工具。

中国“氟化氩光刻机”的突破，打破了这种技术垄断，也为全球芯片产业链的重塑提供了新的可能。

更令人振奋的是，中国制造的光刻机技术参数已经达到国际先进水平，与荷兰ASML的XT1460K光刻机性能不相上下，直接对标欧美2020年的技术水平！

中国“氟化氩光刻机”的消息一出，估计拜登政府心里五味杂陈。

之前美国对中国搞“一刀切”，禁止ASML向中国出口高端光刻机，本以为能彻底封锁中国芯片产业，没想到中国硬是靠自己杀出了一条血路。

现在中国“氟化氩光刻机”取得突破，美国之前的所有封锁措施都成了笑话，估计他们现在正在重新评估对华政策，盘算着下一步该怎么办。

——【·加大管制·】——

很快，美荷两国联手加大了对我国芯片的管制。

2011年，当中国自主研发的歼-20战斗机首次试飞成功，世界为之瞩目。

这不仅仅是一架先进战机的诞生，更象征着中国科技实力的崛起，向世界宣告中国不再是那个任人宰割的国家。

然而，树大招风，中国的崛起触动了某些国家的敏感神经，他们开始担心自己在科技领域的霸主地位受到挑战。

于是，以美国为首的一些西方国家对中国实施了一系列科技封锁，企图用这种方式来限制中国的发展速度，其中，芯片技术成为了他们重点打压的目标。

长期以来，荷兰ASML公司凭借其在光刻机领域的绝对优势，几乎垄断了全球高端光刻机市场。

以其生产的XT1460K光刻机为例，这款机器在2020年左右推出时，代表着当时全球最先进的光刻机技术水平，成为了各国争相追捧的对象。

面对西方国家的技术封锁，中国并没有选择退缩，而是迎难而上，决心自主研发光刻机技术。

功夫不负有心人，中国终于在光刻机技术领域取得了重大突破！

中国自主研发的氟化氩和氟化氪光刻机成功实现量产，这意味着中国成为全球第三个能够制造光刻机的国家，打破了美荷的技术封锁。

美国政府眼看着中国在光刻机领域取得突破，坐不住了。

他们意识到，单靠自己的力量已经无法阻止中国科技的进步，于是开始拉拢盟友，试图通过联合施压的方式来遏制中国的发展。

荷兰，作为美国的盟友以及全球光刻机巨头ASML的所在地，自然成为了美国的重点拉拢对象。

在美国的施压下，荷兰政府宣布扩大对华半导体设备出口限制，追随美国的步伐，对中国实施芯片封锁。

这一消息一出，立刻引发了全球的广泛关注。对于荷兰ASML公司而言，这无疑是一个两难的选择。

一方面，中国是ASML的第二大市场，新规的出台意味着ASML将损失一大笔订单，这对公司的业绩将造成不小的打击。

另一方面，ASML又不得不屈服于美国的压力，限制部分DUV光刻机对华出口。

面对美荷两国的芯片封锁，国际社会反应不一。

中国政府对美荷两国的芯片封锁表示坚决反对，并表示将采取措施维护自身合法权益。

中国外交部发言人毛宁指出，中方一贯反对美国将经贸科技问题政治化、武器化，并敦促美方停止对中国企业的无理打压。

中国商务部也表示，将密切关注有关动向，坚决维护自身合法权益。

——【·7nm有多难·】——

美国为什么会这么有危机感呢？要知道做出7nm的芯片是很难的。

7nm芯片，7纳米，什么概念？相当于头发丝直径的万分之一！

可就在这比指甲盖还小的方寸之地，却集成了上亿个晶体管。

要在如此微小的面积上排列如此巨量的元件，其难度堪比在一平方毫米内安排1亿个员工，而且每个员工都必须各司其职，协同运作。

那么，如此精密的工艺是如何实现的呢？这就不得不提到芯片制造的核心技术——光刻技术。

它就像一把“纳米刀锋”，在晶圆上雕刻出复杂的电路。

光刻技术的原理说起来并不复杂，它利用光刻机、掩膜版和光刻胶，将预先设计好的电路图“打印”到晶圆上。

光刻胶是一种对特定波长的光极其敏感的材料。

当光线穿过掩膜版，照射到涂有光刻胶的晶圆表面时，光刻胶会发生化学反应，变得易于溶解，从而将电路图案转移到晶圆上。

这项技术从最初的“物理雕刻”演变到如今的“化学腐蚀”，解决了芯片制造过程中的诸多难题，也正是因为有了它，7nm，甚至更先进制程的芯片才得以问世。

当然，光刻技术只是芯片制造这座高峰上的一环，而决定这座高峰能否攀登成功的关键，在于光刻机。

它就像雕刻刀，刀锋越锋利，雕刻出的图案就越精细。制造7nm及以下芯片，就需要用到目前最先进的EUV光刻机。

然而，放眼全球，只有荷兰的ASML公司能够生产这种设备。

由此可以看出我国做出7nm的芯片攻克了很大的突破。

当然，我们也要清醒地认识到，中国芯片产业发展起步较晚，与国际先进水平还存在一定差距。

芯片制造是一个涉及50多个行业，2000到5000多道工艺流程的复杂工程，需要长期持续的巨额投入和技术积累。

以芯片巨头英特尔为例，其每年的研发费用就高达数百亿美元。如此高昂的投入，也造就了芯片产业的高价值。

作为信息产业的核心，芯片支撑着整个社会经济的运转，其重要性不言而喻。

展望未来，7nm芯片仅仅是一个新的起点，更先进的制程，更强大的性能，才是我们追求的目标。

——【·总结·】——

虽然中国芯片产业发展面临着外部环境复杂严峻、技术差距仍然存在的挑战，但中国拥有巨大的市场需求、政府的大力支持以及科技人才的不断涌现等发展机遇。

中国芯片产业的未来发展方向是加强自主创新，突破核心技术瓶颈；深化国际合作，维护全球产业链稳定；构建开放共赢的产业生态。

芯片封锁，是挑战，更是机遇。

中国芯片产业的发展道路虽然充满荆棘，但我们有理由相信，凭借中国人民的智慧和汗水，中国芯片产业一定能够突破封锁，实现自主可控，为中国科技发展提供强有力的支撑！

科技自立自强，是中国发展的必由之路。中国将坚定不移地走科技创新之路，为人类科技进步作出更大的贡献！

信息来源：

光明网：64亿欧元！荷兰光刻机巨头披露中国订单

极目新闻：商务部回应荷兰扩大光刻机出口管制范围

环球网：荷兰进一步扩大光刻机管制范围，中方不满：荷方应尊重市场原则和契约精神

浙江国防科技工业网2023-01-03《国防科普“加油站 （49）芯片研发究竟有多难？》

深圳电子商会2023-07-14《三星晶圆代工的5nm制程、7nm制程合计稼动率达90%》

澎湃《美国压力下荷兰“捆紧”阿斯麦光刻机，日韩也正步步受压》2024.9.14

中国新闻网《中方回应荷兰将扩大光刻机管制范围》2024.9.8

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