提到光刻机，很多小伙伴第一时间，都会联想到荷兰的ASML。作为全球顶尖的光刻机设备生产商，ASML当今在国际市场中的地位，主要原因，就是由于其手中掌握了EUV光刻机（极紫外光刻机）的制造能力。

而在前不久，国内清华大学却传出了一则消息，一种通过粒子加速器获取极紫外光的方案被曝光。有博主称，清华正在筹备建立一座光刻工厂，进而替代荷兰的EUV光刻机，来生产高端的新芯片产品。如今，清华EUV方案传出后续，官方正式回应，部分网友的期盼或许要落空了。

据了解，所谓清华大学的EUV光刻机替代方案，是清华大学在多年前的一项光源技术研究这项研究报告，是对一种新型的粒子加速器光源“稳态微聚束”的原理验证。在验证的过程中发现，稳态微聚束（SSMB）理论上可以产生芯片制造过程所需的极紫外光。

不过，正如国内专家项立刚所说的，不相信什么大学的方案，大学做产业一般都不行，科研和生产是两个思路，要把一项科研成果，变成一个生产能力，路是非常远的，而且这个不能由大学和教授们来完成，他们并不具有这个能力。

清华大学稳态微聚束（SSMB）方案，只是一个理论上可行的方案。建设成本不说，就是在建成投产之后，量产出来的光不能用于芯片的光刻加工也还不好说。可网上对这件事情却是越传越邪乎，什么雄安新区将新建一座光刻机工厂都来了。

加上网传圆形的粒子加速器配图，好像国内已经开始要将该方案用于芯片制造了一样。于是乎，官方便在9月18日进行了正式回应，明确表示这不是光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源（HEPS）。

那么，北京高能同步辐射光源（HEPS）究竟是什么？清华大学的方案，又能否替代EUV光刻机来生产芯片，下面我们简单地聊一聊。

根据官方的介绍可知，同步辐射光源是指产生同步辐射的物理装置，它是一种利用相对论性电子（或正电子）在磁场中偏转时产生同步辐射的高性能新型强光源。主要作用是满足中国重大的战略需求，并对众多的基础科学研究提供关键的支撑作用。

说白了，北京高能同步辐射光源（HEPS），就是为了满足国内基础科学研究所设计的装置，不具备光刻机的特性，也无法直接适用于芯片的制造。

之所以这件事被传出来，是因为清华大学提出的稳态微聚束（SSMB）装置，在理论上可以产生出芯片制造国产中所需的极紫外光。不过，想要近准的制造符合芯片加工时所需的即紫外光，对于设备的各种变量控制也要十分的精准。

以现阶段可行的替代方案来讲，筹建光刻工厂进行各种测试，然后再用于芯片的制造，其成本注定要远高于去开发纳米压印、多重曝光等替代技术。

除去时间成本和投入成本过高，实际效果远不如去复刻一台EUV光刻机来的划算。毕竟，在光源的问题解决了之后，还要解决物镜、工作台、激光量测等装置，把这些全部集成在一起，才能完成高端芯片的批量生产。

更何况，新建光刻工厂这种方案，肯定也无法大规模的投入商用。不仅占地面积大，设备光是运输成本，也要比荷兰ASML的EUV光刻机高很多。

直到今天，国内半导体领域的重大突破，哪一个不是稳扎稳打做出来的结果？清华一篇论文，还没有谈到落地和商用，在未来客户、投资什么都看不到的情况下，盲目的吹捧只能够适得其反。目前，不需要盲目的去追赶西方的所谓先进工艺，能够把28纳米及以上的成熟制程芯片做到全流程的国产化，其实，就已经能解决很多问题了。

正如我国倪光南院士所说的，“除智能手机、电脑之外的大多数科技产品，采用28nm/14nm的芯片制程，就已经能够基本满足实际的使用需求了。”国内在先进芯片领域的技术突破需要时间，当下更则应该注重成熟制程芯片产品的自主可控。

这部分产品是应用最广，也是最能够对美方芯片出口造成影响的产品。只要有国产芯片可以进行替代，老美的芯片出口额还得继续下滑。在美国企业扛不住营收的大幅度下滑之后，高端芯片产品的供应也就顺理成章地恢复了。

综上所述，这次官方对清华稳态微聚束（SSMB）方案的回应，应该是比较权威的一则报道了。对于国内的芯片产业链而言，什么都需要一步步的来，不可能一口就吃成个胖子。

ASML在研发EUV光刻机时，前后也经历过多次的失败，甚至险些放弃。国内想要解决EUV光刻机的问题，不遭遇类似的情况是不太可能的。所以，给予国产芯片技术更多关注和支持，才是我们当下最需要去做的。对此，你又是怎么看的呢？欢迎大家留言、讨论！

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