有人说，因为EUV更先进，能制造5nm以下制程的芯片。这仅仅是一方面，更主要的是DUV光刻机的核心技术，是来自台积电的林本坚提出ArF浸没式方案，美国在DUV领域不具备统治地位。因此，阿斯麦向中国出货DUV光刻机无需得到美国授权。而EUV光刻机就不一样了，EUV自出生就被美国从资本和技术层面全面掌控，与DUV有本质的不同。EUV技术起源于英特尔和美国政府牵头成立EUV LLC联盟。该联盟汇聚了美国顶尖的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室，联合IBM、AMD、摩托罗拉等科技巨头，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV光刻技术。阿斯麦在做出美国建立工厂和研发基地等多项让步后，才成功加入EUV联盟。后来，美国用出资入股和技术渗透的形式，牢牢把控ASML的后续EUV技术。也就是说，阿斯麦的EUV技术是受控于美国。