最近（10月4日），欧盟对中国电动汽车加征反补贴关税进行最终投票。荷兰投了赞成票，加入了对我国电动汽车实施“制裁”的阵营。
那么，如果实施对等反制，我们要对荷兰的什么产品加征关税呢？
本文说下我国与荷兰的双边贸易情况。
荷兰位于西欧，南面是比利时，东边是德国，西与英国隔海相望。国土面积4.15万平方公里（相当于半个重庆），人口约1800万人。
目前，荷兰是我国排名第16位的贸易伙伴国，在欧洲国家中排名第3位，次于俄罗斯和德国，超过了英国、瑞士、法国和意大利。我国是荷兰第二大贸易伙伴国，次于德国。
从出口看，荷兰是我国第十大出口目的国，在欧洲国家中排名第3位，次于俄罗斯和德国。
值得说明的是，在我国对外贸易顺差国家中，荷兰排名第3位，次于美国和印度。
2024年1-8月，我国与荷兰外贸总额5148亿元（同比下降5.1%，单位为人民币，下同）。其中，我国从荷兰进口829亿元（同比增长18.8%），对荷兰出口4319亿元（同比下降8.6%），我国实现贸易顺差3490亿元。
从过去十年来看（2014-2023年），我国与荷兰的贸易规模总体保持稳定增长，2023年出现下滑。从2014年到2024年8月，我国对荷兰累计贸易顺差达到4.85万亿元，年均贸易顺差超4500亿元。
下面我们以2024年1-8月中国-荷兰双边贸易数据，分析一下我国与荷兰的进出口商品结构，我国向荷兰出口了哪些产品？进口了哪些产品？
一、我国向荷兰出口产品情况
先看表：
从上表可以看到，我国向荷兰出口最多的是机械电子类产品，出口金额2273亿元，占比52.62%，超一半。其中：
出口笔记本电脑803万台，出口金额334亿元，占比7.73%，单价折约4160元/台；
出口平板电脑374万台，出口金额72亿元，占比1.67%，单价折约1935元/台；
出口智能手机673万部，出口金额206亿元，占比4.76%，单价折约3058元/台；
出口光电池7264万个（已组装），出口金额280亿元，占比6.48%，单价折约385元/个；
出口锂电池1897万个，出口金额114亿元，占比2.63%，单价折约599元/个；
出口逆变器261万个，出口金额76亿元，占比1.77%，单价折约2926元/个。
其次是家具/坐具/灯具/玩具等杂项制品，出口金额378亿元，占比8.74%。其中：
出口视频游戏控制器及设备88亿元，占比2%。
第三是纺织品、服装及鞋帽，出口金额305亿元，占比7.06%。其中：
出口服装173亿元，占比4%。
然后依次是化学品/化工品、金属及其制品、塑料/橡胶及其制品、运输设备及零部件等。
二、我国从荷兰进口产品情况
还是先看表：
与出口一样，我国从荷兰进口最多的也是机械电子类产品，进口金额484亿元，占比58.32%。其中：
进口光刻设备394亿元，占比47.52%，单价折约2.46亿元/台。
其次是化学品与化工品，进口金额66亿元，占比7.97%。其中：
进口药品32亿元，占比3.87%。
第三是婴幼儿奶粉，进口4.72万吨，进口金额62亿元，占比7.46%。
第四是光学/计量/医疗精密仪器及零部件，进口金额57亿元，占比6.85%。其中：
进口显微镜198台，进口金额13亿元，占比1.57%，单价折约657万元/台；
进口X射线应用设备273台，进口金额10.65亿元，占比1.28%，单价折约390万元/台。
然后依次是塑料/橡胶及其制品、金属制品、猪肉、运输设备及零部件、乳品、花卉苗木等。
下面提一下荷兰的光刻机。
三、光刻机
荷兰的ASML公司 ，中文译名为阿斯麦（中国大陆）、艾司摩尔（中国台湾），是目前全球最大的光刻机制造商，世界上绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购设备，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。
这里有一个问题，就是美国为什么能够影响并主导荷兰ASML公司向我国禁运光刻机？
上世纪90年代末，全球光刻机被卡在193nm光源波长，这导致无法生产更加先进的半导体芯片。为此，美国发起组建了EUV LLC联盟。
该联盟阵营非常豪华，成员有英特尔、摩托罗拉、IBM等美国最顶尖的科技企业，还有美国能源部下属的3个顶尖实验室：劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。可以说，EUV LLC联盟有着当时世界最先进的科研实力，是全球半导体技术绝对塔尖。
不过，当时美国没有合适的光刻机生产企业，于是选择了荷兰ASML公司作为技术厂商。同时设限，要求ASML公司在美国建立发中心，一半以上的零部件从美国采购，并接受定期审查。
此后，ASML公司背靠美国主导的EUV LLC联盟，在技术上突飞猛进，在商业上获得了全球垄断地位。
这是ASML受限于美国的根本原因。
今年9月，我国工信部发布了重大技术装备推广目录，其中就有国产氟化氩光刻机。我国氟化氩光刻机使用193nm的光源波长，荷兰ASMLEUV光刻机使用13.5nm的光源波长（技术提供者是美国Cymer公司）。因此，国产DUV光刻机与ASML产EUV 光刻机相比，技术工艺上还有很大差距。
物流启示录注：依照不同光源，光刻机可分为UV（紫外）、DUV（深紫外）以及EUV（极紫外）三大类型。
差距有多大呢？
国产的ArF光刻机（光源波长193nm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm）与ASML在2015年二季度出货的ArF光刻机TWINSCAN XT：1460K（分辨率为≤65nm，套刻精度＜5nm）较为接近。也就是说，在ArF光刻机领域，我国与ASML的差距是9年。
需要说明的是，该差距指的是列入我国推广目录的光刻机，我国目前正在紧锣密鼓研发更为先进的光刻机，在技术追赶的预期速度上，按以往惯例（如盾构机），一定会少于9年。
现在，荷兰ASML作为全球唯一能够生产EUV光刻机的企业，涵盖了从9nm到5nm各个制程节点，垄断了全球高端光刻机市场。但同时可以看到，我国自主研发的光刻机，正在抢占光刻机中低端市场（UV/DUV），对ASML的依赖程度越来越低。
按照目前发展态势，ASML要考虑的，可能不是禁不禁运的问题了，而是手头的中低端光刻机烂不烂库存的问题。中国作为高端技术装备的粉碎机，向来是名不虚传的。
