前言

都知道我国在半导体领域发展之艰难，备受这些以美为首的国家加以打压制裁，标榜着是为了自己“国家安全”所考虑。

但实际上却在有意阻止中国光刻机的发展，不仅在管制出口上进行打压，甚至还利用舆论不断的进行炒作。

“拉帮结派”的这一举动，针对意味十分的明显，而荷兰更是在九月份初的时候，又再次宣布要加大对半导体制造设备的管制。

但这一消息才公布两天，我国工信部却放出重磅消息，其内容主要是的有关很多首台重要技装备的应用跟推广。

而在之中，国产光刻机的出现却让不少人都感到惊喜，中国的科研团队终于再次打破制裁，制造出分辨率更小的光刻机了。

那么这次推出DUV光刻机究竟意味着什么，这些西方国家又对中国做了哪些制裁手段呢？

备受美西方制裁管制

都知道现在全世界，光刻机技术最发达的国家便是美国跟荷兰了，而后者更是制造光刻机最大的商家，占据了市场一大部分。

不管是DUV光刻机还是EUV光刻机，荷兰的ASML公司更是订单接到“手软”。

而除此之外，日本跟德国也在光刻机市场中也占有一定的地位，但是技术方面是不能跟荷兰相比。

但其实光是从这几个国家来看，就能看出，基本上都是跟美一个“梯队”的。

也正因如此美才能一直胁迫这些国家选择拒绝跟中国合作，既不提供技术交流更不达成某部分重要设备的出口贸易。

尤其是荷兰的ASML的公司，即便想继续合作，但却因为美国在中间插手，几番出口进行管制。

而之所以他们公司能够被美压迫，不单单是因为美国的霸主地位，更是因为他们生产的光刻机并不全是荷兰产，有些技术方面是依赖美国。

基于此美国不止一次的施压于荷兰，之前在2021年的时候，中国提出想要购买ASML的光刻机用于生产芯片。

因为当时很多国家的芯片都是通过这台设备制造出来的，主要是用于手机跟电脑这些智能设备的芯片。

当时一台都价值1.5亿美元，可即便是价格昂贵，中国也想跟荷兰达成合作。

但没想到最后荷兰还是觉得不合作，而这都是幕后黑手的美国在操控着这一切，让荷兰不要对其出口。

而理由还是惯用的“国家安全”，但事实上当时该公司的领导人自己都承认，这样的出口管制，很有可能最后导致适得其反。

虽然是个非常有效的工作，但却影响到有关芯片研发企业对此的投入。

但美国做的远不止这些，他们自己还屡次点名针对中国的企业，不让国内的企业跟中国企业展开合作，尤其是在芯片、计算机这种高科技合作中。

而今年的时候，荷兰又再度提出要对光刻机进行出口管制。

这次主要针对的是浸润式DUV，也就是说ASML想要出口该设备，就必须要从荷兰政府那里拿到许可证，不然不能私自出售。

尤其是针对的是除了欧盟之外的那些国家，而其中自然针对最大的便是中国。

而看似现在是荷兰政府掌握了话语权，但实际上有关光刻机的规定还是沿用了一些美国的决定。

对此中方也是不止一次的提出不满，并多次跟荷兰进行谈话，同时评判美在其中领导的霸权，严重影响到全球半导体的发展，更对不少企业都颇有影响。

同时也指出荷兰应该从双方合作出发，严格遵守市场规则，不应发布一些不利于行业发展的管制举措。

并且也要意识到，ASML在中国市场中的占比，已经位于前几位了，也超过了其他一些国家。

而当这一举措加大实施之后的，那该公司在中国市场额的占比将会大受影响。

所以不管是荷兰还是其他国家还是应该及时的看清这一点，以合作本身出发，而并非是因为政治因素或者是地缘影响。

而且中国一直也没有放弃光刻机的研发，最新消息就可以证明这一点。

信息来源：背后使坏！外媒曝光：美国施压荷兰企业限制向中国出售光刻机——环球网2021-07/19

荷兰扩大先进半导体制造设备出口管制——环球时报2024-09-07

商务部回应荷兰扩大光刻机出口管制范围——中国青年网2024-09-09

光刻机研发之路艰难，国产光刻机重磅来袭

都知道光刻机对于芯片制造非常的重要，决定了芯片的性能以及损耗，能够实现多种复杂的工艺，是半导体领域发展的重要一部分。

而中国其实也曾站到过前列的位置，从第一台接触式光刻机，到分步光刻机，中国跟海外的差距其实也不算太大。

但最后却因为成本问题，让中国停止了对光刻机的研发，开始选择国外进口，自此差距开始拉大。

最后以至于当中国的光刻机只能达到90nm的水平，但国外设备却已经可以达到7nm、5nm的能力，所以差距不是短期就能追赶的。

但即便是在这样的情况下，中国也没有放弃，从核心技术的攻破，到全部零件实现自主化，这一步需要时间。

而就在9月9号的时候，工信部官宣了一大批重大技术装备。

其中氟化氪光刻机、氟化氩光刻机的出现让不少人震惊，因为这种信息的发布，就意味着国内已经对光刻机技术实现了重大突破，全面实现自主化。

虽然尚未投入到市场中，已经证明这一设备已经出品，只差正式投入到使用中。

其中氟化氩光刻机已经可以达到65nm的水平，甚至还能比65nm更小一点。

其套刻精度也能达到8纳米以下，而一旦持续推广，将有效降低国内企业对进口光刻机设备的依赖。

也是中国半导体发展前进的重要一步，推动国产芯片的发展，占据国内外的市场占比。

未来也将加大光刻机的研发，再度提高精度，让中国在半导体领域的地位再度提高。

信息来源：工信部推广国产氟化氩光刻机：分辨率≤65nm——观察者网2024-09-14

国产氟化氩光刻机实现8纳米以下的套刻精度——2024-09-15中宏网

瞰天下｜光刻机：中国曾经站在世界“第一方阵”，有望再登高峰——大众日报2023-07-04

文 | xmm

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