文|观今言史

本文内容皆有可靠信源，已赘述文章结尾

众所周知，世界上最关心中国芯片行业发展的除了中国人自己，还有美国。

近些年随着中国芯片开始加速发展，美国对中国光刻机的研发限制也越来越多。甚至在美国问答网站Quora上还出现了这样一个问题：“没有得到美国的允许，中国为什么敢私自研发DUV光刻版？”

为什么部分美国人会有这样的疑问？中国研发光刻机的道路真的被美国给锁死了吗？

早在2018年，美国就以各种理由为借口，通过“长臂管辖”迫使世界知名半导体制造商阿斯麦，限制了许多先进型号的光刻机对华出口。

现如今，市面上常见的光刻机大致可分为两种，分别是深紫外线光刻机DUV，以及极紫外线光刻机EUV。

从技术工艺的角度来讲，EUV要比DUV更先进，可以用于更精密的芯片光刻。

只不过这种说法很片面，现实中的工业生产并不是比大小，只有适合整套工艺流程的光刻机才是最好的，不能刻舟求剑般的认死理。

比如现在比较先进的型号，Fin Fetch 30nm，从名字上来看就和7nm没什么关系，只因人家的技术领先，所以这些型号所宣称的“7nm工艺”也没人敢反对。

显然，美国完全没弄明白这个浅显的道理，一门心思地就只想把中国的芯片研发按在谷底。

8月29日，荷兰半导体制造商阿斯麦透露出消息，称美国正在和荷兰政府交涉，要求阿斯麦限制对中国客户提供DUV光刻机的维修服务。美国媒体评价说，中芯明年恐怕没办法为华为生产出7nm和5nm级别的芯片了。

或许在美国看来，他们早期已经限制了高端光刻机的对华出口，如今再向阿斯麦施压，让他们不再为中国已经购买的DUV光刻机提供维修服务。这样一来过不了几年，中国的光刻机寿命到头了以后也就再也造不出高端芯片了。

可美国却忽略了一个很重要的问题：阻止中国半导体崛起最有效的方法，就是在中国国内大肆宣传“造不如买、买不如租”的理念。

因为只要美国肯放开商品出口，向中国倾销大量的低端产品，就会导致中国国内的半导体企业技术技术比不过，价格价格打不下，彻底陷入恶性循环无法自拔。

这一点包括比尔盖茨和阿斯麦CEO都提到过，称美国限制对华出口将推动中国研发自己的技术。

伟人曾经也批评过“造不如买”这种理念，为的就是鼓励中国的企业和专家开拓技术创新，避免被国外技术“卡脖子”。

而现如今，中国企业也在市场瓶颈的压力下彻底弄清楚了这个道理。2022年，上海微电子公司就自己攻破了14nm级光刻机的技术，虽然还远远达不到高端水平，却也是“中国芯”走向世界的一个里程碑。

中国造光刻机的事情，几乎可以称得上是“历经磨难”。不过好在，现在我们也算是掌握了一定的DUV生产技术。也难怪，美国问答网站上会出现这种奇怪的言论。

光刻机的原理解释起来很简单，通俗来讲就是用刀片在晶片上刻画图案。只不过这里的刀使用“光”做的，晶片的也是以纳米为单位，这一下就把光刻机的制造难度上升了不止一个档次。

2001年，中科院和北大微电子研究院的学者对光刻机进行了简单的分析，写了一份报告，阐述了中国研发光刻机以及组建集成电路产业的紧迫性。

高层领导经过考虑，很快便采纳了这份报告中的建议，随即将光刻机项目列入了国家重大科技攻关计划。承担攻坚项目的，正是前面提到的上海微电子公司。

公司刚成立不久，总经理贺荣明就开始带着团队到欧美各国走访调查，并且尽最大可能地洽谈技术方面的合作。

也正因此，才诞生出了刻在中国人灵魂中的一句话，“就是给你们全套图纸，你们也做不出来”。

这句话是欧洲的一名高级专家告诉贺荣明的，可常言道“话糙理不糙”，当时中国团队听了以后都感觉很气愤，但到了现在，想必贺荣明回想起这句话以后只会觉得无尽的感慨。

根据阿斯麦公司的透露以及中国技术人员自己的经验，一台光刻机光是零件就多达几万个，最先进型号甚至多达10万个零件，并且对工艺和精密测量数据的要求也是苛刻到几乎不是人类能造出来的。

贺荣明对此形容：“就好像两架打飞机从起飞到降落，一架飞机身处一把刀，在另一架飞机的米粒上刻字一样，始终齐头并进，不容一丝差错。”

正是因为充满了这样的愤慨，让上海微电子公司全体技术人员齐心协力，终于在多年以后研制出了中国第一台光刻机。

工艺方面，国产光刻机从一开始交付给台湾客户的那台90nm，提升到了如今的28nm，基本上已经迈入世界领先行列。

至于前面提到的14nm，以及西方所高调宣称的7nm以内，实际上我们在文章开头也已经做出过阐述。

光刻机和其他工业产品一样，不能一味地追求数值，而是要考虑实际情况以及是否能完成一整套产业链。

中国目前可以批量生产的光刻机和集成电路，虽然与国际领先水准还有一定距离，但还是那句话，非洲国家和拉丁美洲国家在基础设施还不健全的情况下，也没办法一口气去购买美西方的7nm光刻机。高端市场要努力追求，中低端市场同样不能放弃。

相信在国家的支持和大力推动下，在美国制裁的外界施压中，中国企业一定能突破技术封锁，早日完成高性能芯片和高精度光刻机的研发。

参考资料：

中国造出DUV光刻机，离EUV还有多远？——2024-06-19·北京华钛技术

Why did China dare to privately develop a DUV lithography machine without permission from the U.S.？——Quora