美国的极限制裁极大的加速了国内EUV光刻机的研发速度，原本这种天马行空的想法只能停留在PPT上和实验室里，现在出于国家战略需要让它迅速落地据说清华大学的SSMB-EUV光源，周长100-150米，输出功率大于1000w，可以同时带动多台光刻机工作，并且3纳米、7纳米、14纳米…可以自由调节和选择。

网友:想出这个办法的才是牛人，中国基建狂魔啊称号用在这里就合适了，能逆向思维，把光刻机解决，还能利用自身基建优势，自身的电力优势，不就地方大点嘛，不就用电多点嘛，不就建筑要求高点嘛。这都不是问题。网友:荷兰ASML是造光刻机的，不是造芯片的。我们国家要的是芯片，光刻机只是造芯片的工具而已！所以我们不要把眼睛只盯着光刻机，怎么能造得跟荷兰ASML一模一样！我们要的是只要能造出芯片，光刻机也好，光刻厂也好，光刻园也好，都无所谓，只要能造出芯片就行！这样以后芯片的制造流程会很快，量也会很大，价格更会很低！网友:以后搞个几百亩的光刻机工业园，里面铺上几十公里的光源；所有芯片设计公司都可以在里面搞个加工中心，光源就像光纤宽带一样安装到户。谁便怎么搞都可以，几亿的流片就不需要了，白菜价！