哈工大宣布的这个消息，简直是科技圈的一颗重磅炸弹，直接把美国和 ASML 炸懵圈了！哈工大成功突破了 EUV 光刻机技术，这技术牛在哪儿呢？它能生产 5nm 及以下的芯片。

要知道，生产这种高端芯片，必须得有高功率的 13.5nm 极紫外光源。可之前，这项技术里的激光器组件和控制光源的 FPGA 芯片，都被 ASML 死死垄断着，咱国内一直没能攻克。但哈工大的赵永蓬团队太牛了，他们另辟蹊径，利用电能产生等离子体，绕过高功率激光，也能产生 13.5nm 极紫外光源。这一下，可就为咱国产高端光刻机的突破，做出了巨大贡献，人家团队也因此获得了一等奖。

美国听到这消息，估计得气得跳脚。为啥呢？这几十年来，美国联合一堆发达国家，对咱搞 “小院高墙” 战略，这可不光是高科技封锁打压，咱跟其他国家合作研发技术，它都要跳出来搞破坏，老美这手段，那叫一个阴险。但现在看来，美国这 “小院高墙” 已经摇摇欲坠，马上就要彻底坍塌了。为啥这么说？你看，美国封锁咱的那些高科技，咱几乎都突破了。像北斗定位系统、空间站、火箭发动机、隐身战斗机、操作系统、客机、核动力潜艇、高端机床、医疗设备等等，几百种呢，根本数不过来。简单说，美国有的，咱能自己生产，美国没做到的，咱也做到了，就像最近试飞的第六代隐身战斗机。

可能有人会说，光刻机不是还没完全突破嘛。我想说，这可不能光听部分人说，麒麟 9020 芯片就是最好的证明。要是光刻机没突破，这芯片咋生产出来的？只能说咱还没有 EUV 光刻机。但现在哈工大突破了 EUV 相关核心技术，离实际应用估计也不远了。这对 ASML 来说，以后估计得天天失眠，对华为来说，那肯定是高兴坏了。而且咱国家一旦能大规模量产 EUV 光刻机，台积电估计就得考虑倒戈了，毕竟市场和技术都在这儿摆着呢。咱中国科技这发展势头，简直势不可挡！