ASML和美国天都塌了，台积电都忍不住开始骂娘！实际让西方和欧美国家没有想到的并不是哈工大研发出来13.5纳米波长的极紫外光，也不是华为mate70全部国产化。而是本来ASML光刻机的光源技术来源于美国Cymer公司，这样来讲市场上的EUV光刻机几乎都是向美国采购的光源。现在你说尴尬不尴尬

当然问题的核心实际上哈工大也说的得很清楚，我们EUV光源绕过了ASML的技术壁垒，简单一点来讲本来美国Cymer公司用的是LPP EUV光源，而这回哈工大用的是DPP EUV光源，名字叫做放电等离子体极紫外光刻光源，体积小，技术难度低，但是效果更好。

但是有一点的确ASML没有说错，那就是光刻机即便是给我们图纸，也真的难做出来。因为说得直白点，光刻机所需要用的元器件高达10万个。拥有EUV光源能做到5纳米，甚至经过多重曝光之后，4纳米和3纳米都能做出来。

实际上打个形象的比喻，光刻的作用就是类似照相机照相，光刻机是放大的“单反”。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻机的是电路图和其他电子元件，在晶圆上成像。而光刻机也是如此，他是靠光类似底片的原理，透过紫外光把设计图缩小到芯片上，然后借助先进的量测系统和软件来检验这些图案，以提高芯片生产的精度与良率。

较真点来说，确实不能高兴的太早！光刻机实际上有四大部分组成，尤其是一台顶级的EUV光刻机需要顶级的光源系统、物镜系统、双工件台、控制系统四大件的支持。这样来说吧！我国现在有的DUV光刻机，确实能做出来7纳米工艺。但是你把光源换上EUV做功耗更低的7纳米或者是5纳米等，那么其他元器件也要更换，尤其是镜头部分

就像台积电说自己能做到2纳米工艺，实际上最重要的除了EUV多重曝光之外，最重要的就是来自于蔡司的物镜系统，其中根据数据显示！一部分是六镜头的反射系统，一部分是照明系统。照明系统由大约 25000个部件组成，重达 6 吨以上。六镜头投影光学元件有40000 多个部件，重约 12 吨。

那么美国，台积电以及ASML真正害怕的实际上就是如此，如果解决了物镜系统，双工件台，控制系统的问题。那么后果不堪设想，因为华为太厉害了，华为能做麒麟9020这样的手机处理器，还能做AI芯片，昇腾910系列，黄仁勋也说过人工AI芯片方面，华为是英伟达最强的对手！包括鲲鹏系列芯片。甚至如果能做出来5纳米工艺。说白了，我们甚至连台积电和ASML也可以完全置之不理啊！这才是西方以及欧美害怕的原因