光刻机的极限是13.5nm，很多人都以为3nm、5nm都是因为先进EUV做的。因为EUV光刻机能做到极限波长为13.5nm的光源，其他不够先进的光刻机做不到极限波长的光源，就需要更复杂的多重模板曝光，良率就没法保证。13.5nm以下是靠刻蚀机和模版继续发展，这就是制程。
光刻机的极限是13.5nm，很多人都以为3nm、5nm都是因为先进EUV做的。因
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