哈工大高端光刻机立新功，国产7nm芯片及以下EUV光源技术，取得突破，哈工大EUV项目，获得一等奖，黑龙江高校成果转化的重大项目，主导EUV赵永蓬教授称：EUV光源项目，采用放电等离子体技术，成功获取中心波长为13.5纳米的极紫外光（EUV）。
这种EUV光源，是荷兰阿斯麦尔（AMSL）光刻机的核心技术，通过多重曝光工艺，可生产7nm，5nm等高端芯片，打破欧美半导体产业对中国的联合封锁。
哈工大高端光刻机立新功，国产7nm芯片及以下EUV光源技术，取得突破，哈工大EU
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