攻克最坚固堡垒，中国取得极深紫外线光源辐射发生装置及光刻设备专利，在芯片制造EUV领域能卡我们脖子的还有谁？我国上海微电子公司公布了其在德国获得的极深紫外线辐射发生装置及光刻设备专利。美国在芯片领域之所以能卡我们脖子，就是因为他有极深紫外线光源专利。我们的专利绕开了美国极深紫外线光源辐射专利，在光刻机EUV极深紫外线光源辐射技术上另辟蹊径。用在阿斯麦尔EUV光刻机上的美国极深紫外线光源发射器，采集器虽然有他的先进性，独特性（整体化，不可拆解性，如被强行拆解设备自动报废）但其去除，过滤中微子，粒子等微小粒子的功能不强，在光刻过程中采用了光多次折射的方式，要经过十余次光的折射，才能把影响光刻效果的微粒子过滤掉，而我们专利的极深紫外线光源辐射，发生装置自带这种过滤功能，只需要三次光的折射就完成过滤。EUV光刻机如果用我们的极深紫外线光源辐射，发生器将使EUV光刻机生产芯片成本降低百分之二十，光刻机使用寿命延长百分之三十以上。有专家估计在明年我们就能制造出中国自己的EUV光刻机。到那时英伟达等美国芯片巨头们的仓库里，存放的每年产量百分之三十芯片库存彻底变成白菜价。现在就有美国美国专家呼吁中国，向美国开放这个专利，与美国形成G2模式，在这方面共同领导世界。现在我们成功了，打破了单一国家不可能单独建造EUV光刻机的魔咒，在芯片制造方面能卡我们脖子的还有谁？为我们的科学家点赞，为民族不屈不挠的坚强意志点赞！信息来源网络