Intel 给出了Intel 4使用EUV后对于工艺的简化效果，所使用遮罩的数量对比上一代Intel 7下降了大约20%，总的工艺步骤也减少5%。
考虑到Intel 4的密度远高于Intel 7，所以可以说这个简化效果非常显著。Intel同时也对比了，如果继续使用DUV的话，那么Intel 4的制造将会有更多步骤。
Intel给出了Intel4使用EUV后对于工艺的简化效果，所使用遮罩的数量
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