2016年，英特尔在冲击10nm工艺的过程中，由于暂时未得到EUV，便尝试采用多重曝光技术，结果失败了，原计划中的Cannon Lake处理器项目最终被迫取消，尽管第二代产品成功实现了量产，但其性能表现并未达到预期要求。 而QL9100芯片采用了一项名为“自动对准四重图案化半导体装置的制作方法及半导体装置”的专利技术，这项技术通过叠加4次曝光过程不计成本地实现了等效5nm效果。该芯片单核心跑分在1600左右，多核心跑分在5200左右，已经达到了骁龙8Gen2的水平，为去美化国产工艺所能达到的最高水准。
