佳能纳米压印光刻机本周已经开始出货。佳能宣布：首批纳米压印光刻机已开始出货，购买者为美国德州电子研究所。佳能的这批纳米压印光刻机能够生产5纳米制程芯片，如果进行改良，还可以用来制造2纳米芯片。 纳米压印光刻技术通过使用模具或者模板将纳米尺度的图案直接压印到晶圆表面的光刻胶上，有点类似我们用印章直接将图案压印在纸上。具体步骤包括：模具制备，制作高精度的纳米尺度模具；光刻胶涂布：在晶圆表面涂布一层光刻胶。压印：将模具压在光刻胶上，通过机械压力将图案转移到光刻胶上。固化：通过紫外光或热处理固化光刻胶，使图案稳定。脱模：将模具从光刻胶上分离，留下纳米尺度的图案。 与荷兰阿斯迈尔的极紫外光刻机相比，佳能纳米压印光刻机的优点在于它能够实现亚10纳米级别的高分辨率。相比传统的光学光刻技术，纳米压印光刻不需要昂贵的光源和复杂的光学系统，成本较低。压印过程快速，适合大规模生产。此外，纳米压印光刻机适用于各种材料和应用，包括半导体、光子学、生物医学等领域。 佳能在纳米压印光刻技术方面进行了多项创新，包括：高精度纳米尺度的模具制造、自动化的纳米压印光刻设备材料研究。佳能还在光刻胶材料和固化技术方面进行了深入研究，确保图案的稳定性和耐久性。 佳能表示，他们的目标是在3到5年的时间内，每年卖出10台纳米压印光刻机。 我国在纳米压印光刻领域还处于论文研究阶段。武汉大学的研究人员提出了一种柔性纳米压印光刻技术。技术力量认为，我国应该可以在该领域很快迎头赶上。 #芯片##科技##纳米压印光刻#
