1965年咱家就有光刻机，1978年光刻机还远赴法国参展，引起轰动！为何后来我们远远落后？ [流泪]又是“只买不造”思想惹的祸！又是一段类似“大飞机放弃自研”的遗憾的历史！ [灵光一闪][灵光一闪]我国的半导体产业，发展的起点并不低，而且从来都是“自力更生”！ ——建国初期，有一批半导体科技人才回到国内！1956年成立科学规划小组，600多位科学家编制了《十二年科学技术发展规划》，半导体技术被列为重中之重。 ——1965年，中科院与上海光学仪器厂icon协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机。 ——1971年，清华徐端颐团队，研制成功中国首台高端自动光刻机，荣获“全国科学大会奖”。1978年，国产光刻机远赴法国参展，引起轰动！ [灵光一闪]请注意：因为，这是在国外“严密封锁”下，国产自主知识产权的光刻机！ ——1980年，徐端颐团队研制出第四代分布式投影光刻机，精度达到3微米，接近国际主流水平。 ——1981年，中国科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。 ——1982年，科学院109厂的KHA-75-1光刻机，跟当时最先进的canon相差不到4年。 ——1985年，中电科45所研制出的分步式投影光刻机，达到美GCA1978年的4800DSW光刻机水平。 [灵光一闪]请注意：至此，中美光刻机技术差距不过7年，ASML此时才刚刚诞生。 ——1991年3月，清华大学研制出第三代“自动对准分步投影光刻机”。 [灵光一闪]在北京举行的“首届全国工业企业技术进步成就展览会”上，美、日专家亲眼看到中国独立研发出具有国际一流水平的光刻机时，连称：“不可思议！” [流泪][流泪][流泪][流泪][流泪][流泪] 这个时候，国产光刻机的研发之路，开始逆转！ 国际“巴黎统筹委员会”马上宣布：取消对华出口投影光刻机的禁令。 [灵光一闪]美日同时宣布解除出口禁令，而且价格优惠！而且声称：“凡购买本公司光刻机的中国企业，欢迎来本公司参观访问旅游，来回机票、酒店住宿和所有的旅行费用，全部由本公司承担”。 这，就是一场“阴谋”！ 第一，用“市场化产品”攻击国产新技术。之前“巴黎统筹委员会”对中国严格禁运，在中国取得“重大突破”之时，却马上解除“禁令”，意图阻止国产自研之路！ 第二，“贿赂企业界”。美日两国针对中国企业的很多优惠，几乎等同于“贿赂”，截胡“国产光刻机”的订单！ 第三，“不卖最先进产品”。他们坚持一个原则：始终只向中国出售低于国际先进水平两个“世代”的产品，意图让我们永远落后于他们！ [流泪][流泪][流泪][流泪][流泪]他们的阴谋得逞了！ 可悲的是，当时的中国，自上而下都处于一种改革“急于求成”的阶段，全国都弥漫着“造不如买”的风气！ 更可悲的是，当时的中国，太相信西方的“善意”，太相信所谓的“全球化”！ 最终，在全国兴起的引进外国设备的热潮中，半导体产业遭受了“毁灭性”的打击： ——原先准备购买国产光刻机的单位，纷纷改变主意； ——原来和清华大学有长期合作关系的中国科学院半导体所109厂以及全国各地的大单位，也都取消了订单。 [流泪]清华光刻机从此失去了市场。国家投入不足，科研的“资金链”断裂，不得不放弃了“研发”！ 从此，中国的半导体及“光刻机”的技术研发和产业化，实质上放弃了自主攻关。 美日欧的“阴谋”终于成功了！他们半导体技术的发展，却在日新月异！我们也被甩的越来越远！ [灵光一闪][灵光一闪][灵光一闪][灵光一闪][灵光一闪] 这，就是我们半导体以及“光刻机”技术落后的真正原因！ ——我们，本来在30年前，就有机会、有能力迎头赶上！ ——我们，在西方集体的诱惑和“围剿”中，自己放弃了自主研发！ 还好！我们终于被“打醒”了！国产光刻机，也终于迎来重大突破！ [灵光一闪][灵光一闪][灵光一闪]我们依然是靠着“一国之力”，完成了“自主研发”，这倒是和30年前一模一样！