国产这台光刻机是干式DUV，也就65nm制程，就算能做多重曝光最多也就28nm。关键都不知道上下游跑起来以后的良品率多少，能不能商用。作为对比，十年前英特尔三代酷睿使用的是22nm工艺。
整体看处于不是很高级，和阿斯麦落后了20年，但至少也是世界第三，比nikon差，比canon强。再过三年，应该能超nikon吧？
国产这台光刻机是干式DUV，也就65nm制程，就算能做多重曝光最多也就28nm。
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这个人很差劲，我们从无到有是很大的突破，不应该鼓劲吗！
关键是所有零部件百分百国产！美西方制裁不了！说明所有零部件都有中国方案，全部绕过西方专利，自有专利技术，也说明EUV完全有可能成功！这难道不值庆贺？
这款已经是商用水平了，仔细看报道。既然商用了那良品率你觉得能不能过关？
嘴，从0到1，是最难的，有1就有2，会越来越好的，别看低自己。
分辨率啥时候成了制程了。3纳米制程工业用地光刻机分辨率是14.8纳米
相当于冰山的顶漏出来了
美国代理
这嘴哥，当年肯定打过三针以上科兴！！！
够用了
你喱條乜嘴哥！是乜𨳊野心態 ！！！