国产光刻机技术重大突破！工信部正式推广氟化氪与氟化氩DUV光刻机。 近日，工业和信息化部发布了首台套重大技术装备推广应用指导目录，其中引人注目的亮点便是国产氟化氪和氟化氩光刻机的亮相。这两款光刻机作为集成电路制造的核心设备，其光源波长达到193纳米，分辨率≤65nm，套刻精度更是≤8nm，标志着我国在芯片制造领域迈出了坚实的一步。氟化氪和氟化氩作为深紫外光刻机的关键气体，服务于先进的ArF准分子激光技术，正是这一技术的突破，将极大地推动中国军事、工业和电子产业的独立自主。不仅如此，这一消息也预示着中国芯片生态的深刻变革，国产芯片技术正逐步走向世界前列。SMEE等国内企业公布的EUV光刻设备新专利更是为这一进程增添了强劲动力，助力中国芯片技术全面升级。 国产光刻机的崛起，是中国科技力量的展现。让我们共同期待，中国芯片技术更加辉煌的明天！感谢观看，别忘了点赞关注哦！ #秋日生活打卡季#