千万不要听网上忽悠，工信部何曾宣布光刻机技术的重大突破？荷兰阿斯麦还领先我们近20年，其技术水平还甩我们好几条街。 这几天网上真是热火朝天，其热烈讨论的就是国产光刻机的事情。什么重大突破，特大喜讯，炸裂，什么奔走相告、欣喜如狂，什么再也不怕卡脖子，让芯片变成白菜价，什么打脸荷兰美国，让他们哭去吧，等等，不一而足。 仔细看看，工信部根本没有这样的宣布，只是印发了一个技术装备应用指导目录，在这个目录里有光刻机这一项。 可网上却说成了什么郑重宣布，同时对这款光刻机进行了过分夸大和不正确的解读，套刻8纳米，当成了直接光刻8纳米的精度。实际上这是完全不同的两个概念。套刻就要多次曝光，就会降低良品率，而且会耗费更多的光刻材料。 实际上，我们的这款DUV光刻机，荷兰阿斯麦早在18年前的2006年就有了。阿斯麦现在最先进的是EUV光刻机，已经能够生产3纳米芯片。别看这几纳米的差别，可技术难度却是有着天壤之别。 实事求是地说，阿斯麦还领先我们近20年，其技术水平还甩我们好几条街。因为DUV和EUV相比还存在巨大的代差。 所以，我们千万不可夜郎自大，不知所以。要躬下身子，踏踏实实地继续努力。