ASML目前的EUV光刻机NEX:3600D的数值孔径NA只有0.33，优势制程为≤7nm。
新一代的EXE:5000将NA大幅提升至0.55。新机去年底下线，已经运往Intel，预计2025年完成安装和调试并交付。不过看Intel目前的惨状，恐怕短时间用不上了 [偷笑]
EXE:5000的照明波长13.5nm，分辨率8nm，套刻精度1.1nm，生产芯片的优势制程为≤2nm
PS：目前国内在研EUV光刻机数值孔径介于ASML第一代0.33和第二代0.55之间，0.4X [并不简单]
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ASML目前的EUV光刻机NEX:3600D的数值孔径NA只有0.33，优势制程
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