#光刻机#氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。国产DUV不断突破真的趋势向好，期待能大规模商用吧！
ASML配合美国禁售中国EUV甚至DUV光刻机，如果国内替代成熟也就没ASML什么事了[并不简单]！
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这个东西关键要有人用，不断改进就可以不断提升，缺的只是时间
科技这玩意，只要突破了1，然后给大批量的机会用，迭代的速度会发疯。