大约在2000年左右的时候，欧盟开始构思实施《RoHS指令》和《WEEE指令》，电镀品急需替代品。所以开始接触了PVD技术替代电镀。

PVD效果

钛靶材是由纯钛或钛合金制作成的圆形或者方形。"靶"在这里是一个术语，主要用于涉及物理蒸发或溅射过程的领域，钛靶材就作为靶向材料为产品的镀层提供基础物质。

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法轰击材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术， 物理气相沉积是主要的表面处理技术之一。当时接触最多的是铝靶,钛靶,金靶等,当时只知道靶材特别贵。

PVD原理

今天主要探讨一下钛靶，钛靶包含纯钛和钛合金。钛靶材具有钛本身的出色特性，比如优良的腐蚀抗性（耐酸耐碱），高强度和低密度，以及良好的生物相容性，耐高温等。靶材会在PVD过程中被"轰击"以产生钛原子，因此它的表面质量对沉积出来的钛膜的质量有着极大的影响。因此，靶材通常都需要经过精磨，以达到足够平整且无显微裂纹和杂质的表面。这样才能在使用过程中保证高的溅射率和薄膜的高纯度

钛靶材的制造工艺

海绵钛挑选(高纯海绵钛4N,4N5,5N)---真空熔炼(VAR)(三次熔炼)---锻造---轧制---粗加工---热处理---精加工---第三方检验---质量检验---包装(真空包装)---发货

钛靶材的应用领域

1半导体行业：钛与其化合物（如氮化钛和氧化钛）常常被用于制造半导体设备中的界面层、助焊膜、阻挡层等。它可以应用于沉积硅片上的金属膜,用于把其他电子元素连接起来以形成电路。

2镀膜行业：钛靶材用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）以生产高效和耐用的镀膜。这些镀膜应用在多个领域，包括建筑上的太阳能控制玻璃，汽车零部件的耐磨硬膜，化石能源设备的耐腐蚀膜等。

3光学行业：在光学行业，钛靶材被用于制造具有抗反射，消耗磨损和氧化防护等特性的薄膜。一些具体应用范围包括眼镜镀膜，照相机镜头元件，望远镜，显微镜和其他精密仪器。

4存储设备：在数据存储设备，如硬盘中，硬盘的磁行层通常采用一层薄的钛膜，具有良好的热稳定性和耐磨性。

5医疗器械行业： 在牙科领域，可以使用PVD技术在牙科植入物上沉积钛膜，以增强与骨的结合力，改善生物相容性。

钛靶