文/蘑菇谈科技

最近这段时间，台积电和ASML对中国企业的态度都不是那么友好。

前有一个台积电的刘德音在公开场合说，华为是永远不可能追赶上台积电的。后有一个ASML的高管声称，在可以预见的未来，在EUV光刻机领域中，中国的光刻设备公司都无法和ASML竞争。

由此可见，他们对自己的领先的技术保持有多么的自信。可紧接着，ASML的前高管就站出来泼了一盆冷水。

据其前首席执行官Martin表示：Hyper NA可能将是最后一个NA，而且还不一定能真正的投产。他口中所指出的就是ASML下一代准备开发的0.75NA光刻机理论，也是最为逼近当下技术极限的理论。就算可以突破这样的新技术，从经济层面来说也不可行。

事实上，ASML现有的尖端High NA EUV光刻机一台的售价，就让很多的厂商们觉得昂贵不已。此前台积电的高管就说过，他们有采购的打算，因为他们确实喜欢这个技术。但与此同时，他们并不喜欢高昂的价格。

那么，可以推测在如今设备都觉得价格昂贵的情况下，下一代的0.75NA光刻设备的售价会有多么不让人接受。这也验证了那句话——“从经济层面来说是不好推广的一个设备。”

从诸多这样的相关言论，我们可以得出一个结论：如今ASML所拿出来的尖端光刻机技术，在未来很长一段时间不会有所变动。而这一切只是因为光刻技术的突破已经被“逼”到了一个尽头。

对于ASML来说，这可能不是一个好消息。但是对于我们国内的光刻厂商而言，这就是一个利好的局面，可以说是国产光刻设备追击的时候到了。

不可否认，我们和ASML在光刻机的制造上有一定的差距。

这主要因为两方面，一方面是光刻机的零部件众多，其中先进标准型的EUV光刻机就拥有超过10万个零部件，涉及到的上游供应商就有5000多家。其中有很多都来自于美国的技术，而我们本身就遇到获取美国技术的阻碍，想要自主突破很难。

另外一方面，国内光刻机厂商们的赛道好像发生了变化。大概是由于不能短时间的突破尖端的光刻机技术，他们在成熟工艺制程上更为的看中。与此同时，还有一些另辟蹊径的操作，也就是大家口中的“弯道超车”。所以才导致了，我们和ASML一直都有着很明显的差距。

可是现在ASML的光刻机技术已经陷入了一个“瓶颈期”，在可以预估的十年内，他们基本上都不会拿出新的产品了。而这就给了我们国产光刻机设备追击的机会，只要我们全面的提升技术，也不是没有追平ASML的可能。

只不过，现在摆在我们眼前的有这样一个难题，我们是要追逐这种已经逼近了极限的光刻机技术，继续拓展现有的资源跟进。还是说，我们应该全部换一条新的赛道，集中力量真的找到一条绕开光刻机的道路呢？

前者可能会更加容易，毕竟有先例的技术在前。只是我们要在未来做好及时换道的准备。至于后者，就目前而言笔者觉得难度较大，而且市场能不能第一时间还是一个值得深思的问题。

那么在你们看来，我们应该怎么做呢？欢迎对此进行留言评论、点赞和分享！

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