中国自主研发的光刻投影物镜，已处于世界先进水平。我们离EUV光刻机还有多远？EUV光刻机之所以难造，是因为里面有多达10万个零部件。而在这些零部件里面，最难的要数投影物镜。投影物镜算得上是到现在为止人类所能研制的最为精密和复杂的光学系统了。而ASML制造EUV光刻机使用的投影物镜，是由全球顶级光学仪器公司德国蔡司提供，这也是为什么说EUV光刻机是多国顶级科技的结晶。所以攻下投影物镜，就是研发EUV光刻机的重要一环。我国在投影物镜领域持续发力，并取得了突飞猛进。长春光机所应用光学国家重点实验室进行的“极紫外光刻关键技术研究”在2017年已经通过了初步验收，并成功实现用EUV光刻出32nm曝光图形。这是我国在光刻领域的一大突破。荷兰的ASML仗着自己是全球唯一能造出EUV光刻机的企业，曾嘲笑我们说给我们图纸我们也造不出EUV光刻机。但光刻机不是神造的是人造的，10万个零件也有全部攻克的那一天。光学透镜我们进入世界先进水平，EUV光刻机也不会再遥远！不知道大家怎么看呢？